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Elettronica dello Stato Solido Lezione 1: Introduzione Daniele Ielmini DEIB Politecnico di Milano [email protected]

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Elettronica dello Stato Solido

Lezione 1: Introduzione

Daniele Ielmini

DEIB – Politecnico di Milano

[email protected]

Outline

• Informazioni sul corso

• Introduzione all’elettronica dello stato

solido

• Breve storia della microelettronica

• Conclusioni

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 2

Obiettivi del corso

• Obiettivo: apprendere la fisica dei dispositivi sulla

base della comprensione dello stato e delle proprietà

di trasporto dei portatori (elettroni, lacune):

1. Meccanica quantistica (elettroni in atomi,

elettroni nei solidi, teoria delle bande, densità

degli stati)

2. Statistica dei portatori (distribuzioni di energia,

densità di portatori in metalli, semiconduttori e

isolanti, drogaggio)

3. Trasporto di portatori (mobilità, drift, diffusione,

effetti di alto campo)

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 3

Perchè ESS? 1. Una delle poche occasioni nel Corso di Ingegneria

Elettronica per imparare la fisica moderna (quantistica, stato solido, semiconduttori)

2. Propedeutico a tematiche dispositivistiche nella triennale (Optoelettronica) e magistrale (Electron Devices)

3. I dispositivi sono i mattoni fondamentali dei circuiti e dei sistemi conoscenze di base necessarie per ogni progettista completo

4. È il punto d’accesso per uno degli argomenti di ricerca più affascinanti del panorama dell’elettronica: nanotecnologie, nuovi dispositivi/materiali (grafene, memristori, spintronica, neuromorfici = sistemi in grado di imitare l’elaborazione delle informazioni nel cervello)

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Organizzazione del corso

• 3+2+2 ore settimanali di lezione (totale 60 ore)

• 2 ore settimanali di esercitazioni (totale 40 ore)

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 5

aula A (ed. 11)

Laboratorio numerico

• Scopo: vedere la fisica dei dispositivi

(dipendenza dal tempo, 3D) e acquisire

strumenti di apprendimento,

approfondimento e gioco D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 6

100nm 5nm 100nm 5nm 100nm

T=600K

kx

ky

kz

Riferimenti bibliografici

• Eisberg, Resnick – Quantum Physics of Atoms,

Molecules, Solids, Nuclei and Particles (Wiley)

– Cap. 1, 2 (no 2.7/8), 3, 4, 5, 6 + leggere 13 (fac.)

• R. Pierret – Advanced Semiconductor Fundamentals

– Cap. 1, 3, 4, 5 (no 5.3/4), 6 + leggere 2 (fac.)

• Testo in italiano: F. Ciccacci, Introduzione alla Fisica

dei Quanti

• Materiale online (lezioni, esercitazioni di laboratorio e

temi d’esame risolti) al sito

http://home.deib.polimi.it/ielmini/ess.htm

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 7

Ricevimento/esami

• Ricevimento: Venerdì 10-12AM, Via Golgi 40 –

Piano 2 (6120 o [email protected])

• Esame: esercizi su tutto il corso (lezioni +

esercitazioni)

• Sito web http://home.deib.polimi.it/ielmini/ess.htm

– Slides del corso

– Avvisi

– Temi d’esame 2008-2016 + soluzioni

– Altro materiale didattico (animazioni, codici

Matlab, tesi disponibili)

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 8

Outline

• Informazioni sul corso

• Introduzione all’elettronica dello stato

solido

• Breve storia della microelettronica

• Conclusioni

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Nanoelettronica

• Nanoelettronica applicazioni nell’ICT

(information and communication technology)

pervasiva (elaborazione e trasmissione dati,

industria, automotive, servizi, internet of things)

• Sistemi ICT = software + hardware

• Hardware = sistemi (system-in-package – SiP,

system-on-chip – SoC) circuiti dispositivi

(attivi e passivi)

• I dispositivi sono realizzati allo stato solido: ad

esempio, tutte le porte logiche in un

microprocessore sono integrate nello stesso

cristallo (chip) di silicio

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 10

Sistemi, circuiti e dispositivi

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 11

Central Processing Unit (CPU)

Intel 22 nm Ivy Bridge

MOS transistor 45 nm p-channel

Computer,

tablet,

smartphone

... Inoltre sistemi automotive (airbag, advanced driver

assistance systems – ADAS), medicali (diagnostica/PET,

cochlear implant), industria (4.0, PLC, robot, tracciabilità)

Alcuni sistemi elettronici

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 12

Circuiti integrati elettronici (ICs)

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 13

Primo IC nel 1958 Wafer con decine di ICs

IC in package

(memoria flash)

Intel 486

• IC digitali (microprocessori,

microcontrollori, memorie, FPGA)

• IC analogici (amplificatori, mixers,

trasmettitori/ricevitori, filtri)

• Mixed signals, convertitori

Dispositivi elettronici allo stato solido

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Materiali solidi in elettronica

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ISOLANTI: SiO2

(dielettrico di gate),

SiN (spacer),

dielettrici alternativi

con alta costante

dielettrica (high-K,

isolanti di gate oltre il

nodo 45 nm) o bassa

costante dielettrica

(low-K, interlayer

dielectric)

SEMICONDUTTORI:

Si, o semiconduttori

alternativi (Ge, SiGe,

composti III-V come

GaAs, InGaAs)

METALLI: Cu

(interconnessioni),

W (plug) e

composti metallici

come TaN, TiN, etc.

per il gate

(soprattutto se

abbinati a high K)

Resistività elettrica

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1E+00

1E+02

1E+04

1E+06

1E+08

1E+10

1E+12

1E+14

1E+16

1E+18

1E+20

1E+22

1E+24

1E+26

1E+28

1E+30

1E+32

Ag

Cu

Au Al

W Ni

Fe Sn Pb As

Sb Hg

Nic

hro

me C Te Ge Si B Se P

SiN

SiO

2 S

par

affi

na

PET

tefl

on

METALLI

SEMICONDUTTORI

ISOLANTI

Res

isti

vity

[mW

cm]

V =RI

R = l / A

Spiegazione

• La variazione di 32 ordini di grandezza tra i vari materiali è spiegata dalle diverse densità di portatori, infatti =(qnmn)

-1: – Portatore = una particella (o quasi-particella) dotata

di carica (elettrone negativo o lacuna positiva) che può muoversi sotto l’effetto di un campo elettrico e generare una corrente

– Metalli: abbondanza di portatori disponibili

– Semiconduttori: pochi (controllabili) portatori

– Isolanti: praticamente nessun portatore

• La disponibilità di portatori dipende dalle proprietà di legame del solido, dalle impurezze e dalle condizioni (temperatura, campo elettrico)

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 19

Tavola periodica

• Numero di elettroni nella shell esterna controlla il carattere del materiale comportamento conduttivo o isolante a seconda di come gli elettroni sono condivisi nello stato solido

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 20

http://facstaff.gpc.edu/~pgore/PhysicalScience/Periodic-table.html

Applicazioni

• Metalli = interconnessioni, elettrodi in condensatori (metal gate), induttori

• Isolanti = separazione tra connessioni e dielettrici in capacità (isolante di gate in MOSFET)

• Semiconduttori = materiali attivi

• L’interesse nei semiconduttori va aldilà della resistività intermedia (semplice applicazione come resistore), e precisamente nella sua capacità di cambiare, ad esempio con:

– Il drogaggio

– L’inversione

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 21

Drogaggio nei semiconduttori

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 22

Il diodo e il transistore a giunzione bipolare (BJT)

sono basati sul drogaggio alternato di semiconduttori

Inversione in semiconduttori

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I D [

mA

] Una regione di silicio p può diventare di tipo n

mediante l’applicazione di un campo verticale

effetto del transistore MOS

Applicazione = switch (digitale) o generatore di

corrente comandato da tensione (analogico)

Outline

• Informazioni sul corso

• Introduzione all’elettronica dello stato

solido

• Breve storia della microelettronica

• Conclusioni

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1947: il primo transistor

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 25

• Dicembre 1947: Shockley, Brattain e Bardeen

sviluppano un transistor a contatto di punto usando Ge

• Il transistor mostra per la prima volta amplificazione

analogica

1958: primo circuito integrato (IC)

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 26

• 1958: J. Kilby (Texas Instruments) inventa

una tecnica per integrare tutti i dispositivi

(transistor, R, C) in un solo cristallo di Ge

• Più tardi R. Noyce (Fairchild) migliora l’idea

integrando anche le interconnessioni,

preparando la strada per la tecnologia di

circuiti integrati ad alta densità (ultra-large-

scale integration, ULSI)

• 2000: Premio Nobel a

Kilby per la sua

invenzione

1965: legge di Moore

• Dopo appena 4 anni dal primo IC

commerciale, Moore osserva che il numero

di transistori integrati raddoppia ogni 18 mesi

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 27

Legge di Moore

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An Osborne Executive portable computer, from 1982, and an iPhone,

released 2007 (iPhone 3G in picture). The Executive weighs 100 times as

much, has nearly 500 times the volume, cost 10 times as much, and has a

100th the clock frequency of the iPhone

MPUs dal 1970 al 2008

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N raddoppia ogni

24 mesi

N raddoppia ogni

18 mesi

Limiti della legge di Moore

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a = 0.54 nm

Single-atom transistor

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 32

Scaling = materiali e design

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III-V semiconductors Tunnel FET

2D semiconductors

Strategie more-Moore

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(1) New materials (2) New architectures

Off-state power

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• Dynamic power Pon = fCVDD2 need for VDD scaling,

but reducing VDD causes an increase of Ioff

• Two approaches to reduce OFF-leakage power:

– Steep subthreshold (TFET, IMOS, NEMS, NGFET)

– Normally-off logic through NVM (spintronic, memristor)

T. Sakurai, ISSCC 2003 A. Ionescu, 2011

Scaling

Oltre la legge di Moore

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 36

MEMS RF CMOS Image sensors

III-V semiconductors

2D semiconductors

Tunnel FET

Spintronics Quantum computing Memristor

Beyond CMOS: il memristor

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 37

Set Reset

VA VA < 0

VA TiN

TiN

HfO2 Ti

Set

Reset

IC = 9 mA

VA > 0

Beyond CMOS: il memristor

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 38

Scaling del memristor

D. Ielmini – Elettronica dello Stato Solido 01 39

d = 0.26 nm

F = 10d = 2.6 nm

V. V. Zhirnov, et al.,

Nanotech. 22 (2011) J. Park, et al.,

IEDM Tech. Dig. 63 (2011)

Calcolo neuromorfico

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• Neuromorphic architectures aim at

replicating cognitive behaviors

(learning, recognition, decision

making)

• Density in the human cortex

– Cells = 107 cm-2

– Synapses = 1011 cm-2 (104

average connectivity)

In vivo In silico

Neuron CMOS

Axons/dendrites Interconnect

Synapses RRAM/memristors

Spike-timing dependent plasticity (STDP)

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Fire gate

VCG

Communication

gate BE

VTE

VFG

S. Ambrogio, et al.,

IEEE Trans. Electron Devices (2016)

G.-Q. Bi and M.-M. Poo,

J. Neuroscience 18, 1998

Neuromorphic networks: a 2-layer

perceptron

Learning of handwritten digits (MNIST database) was simulated with a 2-layer network (N = 28x28)

42 Post-Si computing – 6

1st layer = N neurons

2nd layer = 1 neuron

Pattern

PRE

POST 1

1

2

3

N

On-line learning and update

43 Post-Si computing – 6

S. Ambrogio, et al., IEEE Trans. Electron Devices 63, 1508 (2016)

Multiple learning neurons

44 Post-Si computing – 6

1

2

3

N

PRE

POST 1 2 M

……

……

……

……

First layer N neurons

Second layer M neurons

Pattern

Learning multiple digits

45 Post-Si computing – 6

‘What I cannot create, I do not

understand’

46 Post-Si computing – 6

Arduino mC

PRE

neurons

POST

neurons

Synapses

Input

Weights

VTH

Pattern learning from HRS

synapses

47 Post-Si computing – 6

Input

Weights

VTH

Pattern learning from LRS

synapses

48 Post-Si computing – 6

Learning of 3 sequential patterns

Post-Si computing – 6 49

Multiple-pattern learning and

tracking

Post-Si computing – 6 50

Conclusioni

• I dispositivi elettronici richiedono la presenza di

diversi materiali con diverse funzioni, i

semiconduttori a giocare il ruolo di materiali attivi

• Per capire le proprietà uniche dei semiconduttori,

i fondamenti della fisica quantistica e dello stato

solido sono necessari

• La crescita esponenziale prevista da Moore non

continuerà per sempre. Servono innovazioni di

fisica/materiali/architetture ruolo abilitante

dell’elettronica dello stato solido

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