Cap.X-Schemi di Controllo

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Dinamica e Controllo dei Processi Cap.10: Schemi di Controllo Claudio Scali Laboratorio di Controllo dei Processi Chimici (CPCLab) Dipartimento di Ingegneria Chimica (DICCISM) Università di Pisa

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Dinamica e Controllo dei Processi Cap.10: Schemi di Controllo

Claudio Scali

Laboratorio di Controllo dei Processi Chimici (CPCLab)

Dipartimento di Ingegneria Chimica (DICCISM)

Università di Pisa

Page 2: Cap.X-Schemi di Controllo

SOMMARIO

• Simboli per la rappresentazione della strumentazione

• Controllo delle variabili di base:

- Livello,

- Portata,

- Pressione,

X, 2Dinamica e Controllo dei Processi C. Scali, Università di Pisa

- Temperatura

• Schemi di controllo in cascata e in avanti

• Schemi di controllo selettivo e a priorità

• Analisi di alcuni schemi di controllo di processi industriali

Page 3: Cap.X-Schemi di Controllo

SIMBOLI(*) -1

• Simbologia per interconnessioni• Simbologia per alimentazioni

• AS – Alimentazione ad ariaIA (aria strumenti) PA (aria impianto)

• ES – Alimentazione elettrica• GS – Alimentazione a gas• HS – Alimentazione idraulica

Simbologia per linee e strumentazioni

X, 3 C. Scali, Università di Pisa

(*) Rif. Normativa ISA

(Instruments Society of America)

Normative diverse a livello aziendale

• HS – Alimentazione idraulica• NS – Alimentazione ad azoto• SS – Alimentazione a vapore•WS – Alimentazione ad acqua

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SIMBOLI - 2

Simbologia per identificazione dello strumento

• Identificazione funzionale: 1°lettera���� variabile

Lettere succ.���� Funzioni

• Variabili più comuni • Funzioni più comuni

• C� composizione • A� allarme

X, 4 C. Scali, Università di Pisa

• C� composizione

• F� portata

• I� corrente

• L� livello

• P� pressione

• T� temperatura

• rF� rapporto portate

• pH� pH

• A� allarme

• C� controllo

• I� indicazione

• R� registrazione

• S� interruzione

Dinamica e Controllo dei Processi

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SIMBOLI -3

Simbologia grafica degli strumenti

• Strumento analogico

• Strumento digitale

• Calcolatore

X, 5 C. Scali, Università di Pisa

• Contollore a Logica Programmabile (PLC)

• La barra orizzontale indica strumento a quadro

Esempi

TRC203

Controllo e registrazione di temperatura del loop 203 montato a quadro (analogico)

Controllo e misura di portata del loop 102 montato a quadro (digitale)FIC

102

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Controllo di Base e Ottimizzazione

• Regolazione di BaseRegolazione di Base (sicurezza e gestione ordinaria) richiede controllo:

Pressione (PC), Portata (FC), Livello (LC), Temperatura (TC)

• P, F, L, T: misurabili facilmente

• In genere schemi in retroazione con regolatori PID

• In qualche caso schemi più complessi (cascata, in avanti, selettivi, a priorità)

X, 6 C. Scali, Università di Pisa

• OttimizzazioneOttimizzazione richiede controllo di variabili di prestazione:

concentrazioni, composizioni, pesi molecolari polimeri, grammatura carta...

• In genere non misurabili facilmente in automatico

• Necessario usare schemi di controllo più complessi (MIMO, inferenziali)

e Regolatori Avanzati, Calcolatori

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Controllo di Livello: LC

� LCLC:: Bilancio di massa per un liquido (Qi=Qu, ρ=cost)- In genere il regolatore ha soltanto l’azione Proporzionale (offset tollerato)- La presenza di rumori sulla misura sconsiglia uso dell’azione Derivativa.

• In generale, il controllo di livello non è prioritario, in quanto:

� Il serbatoio di per sè ha lo scopo di smorzare variazioni della portata in ingresso

� Un controllo di livello perfetto scarica la perturbazione sull’uscita (effetto indesiderato)

� Possibili soluzioni: LC non prioritario;

dt

dHAQQ ui ⋅+=

0

X, 7 C. Scali, Università di Pisa

(1):(1): Regolatore in retroazione (tuning blando su LC, per ridurre disturbo a valle)

LC

Qi

QuQu

Q i

(2):(2): Regolatore On-Off agente direttamente sulla pompa(livello varia tra min e max)

(3):(3): Portata di uscita Qu= costanteEccesso di portata: LC agisce su Qu’= Qi-Qu

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 8: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Livello: LC

Altra soluzione: LC non prioritario

LC

Qi

Disturbo su Qi

qi

X, 8 C. Scali, Università di Pisa

(4):(4): Cascata LC���� FC, nel caso di disturbi sulla pressione di uscita(tuning diverso LC, FC)

FC

Per un aumento a gradino di qi

La portata qu aumenta gradualmente

Con regolatore P resta offset su H

qu

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 9: Cap.X-Schemi di Controllo

s

KPP

FFxhy

Pd

ui

−=−=

−== ;

Controllo di Livello: LC

• Il processo è un integratore puro

• Il regolatore è in generale di tipo proporzionale

Open Loop

X, 9 C. Scali, Università di Pisa

s

dPd

s

KV

d

V

V

′⋅=

+=

1ττττ

• Il disturbo è sulla portata in ingresso

• La variazione di set-point introdotta ès

r

s

KdPd

sd P

d

1

'1

2

=

=⋅=→=′

• Closed Loop d’=Fi

-r

C V P

d

-

u=Fu

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 10: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Livello LC

�E’ un caso in cui r≠d;

�E’ un caso in cui l’integratore è contenuto in P(s)

�Normalmente il regolatore è proporzionale C=CP=KC (e=0 su y(r); e≠0 su y(d)

dPCV

Pr

PCV

PCVyyy d

dr+

++

=+=11

Variazione di set-point

( )1

1

1lim)(lim =⋅

++⋅=

→∞→ sKKKss

KKKsry VCP

ττττ�No offset

X, 10 C. Scali, Università di Pisa

(variazione disturbo nulla) ( )1

1lim)(lim

0=⋅

++⋅=

→∞→ sKKKsssry

VCPVst ττττ

�No offset

Variazione del disturbo

(variazione set-point nulla) ( ) VCVCPV

P

st KKsKKKss

Ksdy

11

1lim)(lim

0=⋅

++⋅=

→∞→ ττττ�Offset

� Il controllo P è sufficiente perchè permette di cambiare il livello del serbatoio e diassorbire perturbazioni sulla portata di ingresso con offset limitato (elevato Kc)

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Page 11: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Pressione PC

��PCPC::Bilancio di massa per un aeriforme

( ) ( )

00

cost.T,

PV

ui

ui

dt

dVPk

dt

dPVkGG

Pkdt

VdGG

⋅+⋅+=→

=⋅=+= ρρρρρρρρ

• Operando a volume costante, PC realizza il bilancio di massa

• In genere, il regolatore è proporzionale, un piccolo offset è tollerato

• Dinamica del processo è molto veloce

X, 11 C. Scali, Università di Pisa

• Dinamica del processo è molto veloce

�Un controllo perfetto scarica la perturbazione sull’uscita (effetto indesiderato in molti casi)

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 12: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Pressione PC

• In molte applicazioni, la portata in ingresso (Gi) è diversa dalla portata prelevata (Gu); ad esempio: distribuzione di gas metano, generazione di gas nell’impianto (cokeria, biogas)

�Prioritario: possibilità di accumulare gas

1. Serbatoio a Pressione variabile: es. centrale di distribuzione di gas metano

2. Serbatoio a Volume variabile (gasometri): es. generazione di gas nell’impianto

X, 12 C. Scali, Università di Pisa

2. Serbatoio a Volume variabile (gasometri): es. generazione di gas nell’impianto

1. Il serbatoio deve avere la capacità sufficiente per aasorbire le fluttuazioni di portata (Gi≠≠≠≠ Gu) nel range di pressione ammesso

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 13: Cap.X-Schemi di Controllo

2. Gasometri

• A secco

• Tetto mobile realizza il volume variabile

• La pressione interna Pi è di poco superiore alla Pressione atmosferica P0

• Facile da costruire, elevati valori (200x103 m3)

• Problemi: tenuta (usura della guarnizione)

X, 13 C. Scali, Università di Pisa

• A umido

• La tenuta è assicurata dal battente di liquido (acqua)

• Inconvenienti, per il caso (a): elevato volume di liquido (non utilizzato); elevata superficie di contatto�contaminazione del gas� si utilizza la (b)

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 14: Cap.X-Schemi di Controllo

2. Gasometri

• A telescopio

X, 14 C. Scali, Università di Pisa

• Particolare tipo di gasometro ad umido: gasometro a telescopio

� Il volume utile è tutto il volume disponibile

� Tenuta con battente di liquido

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Page 15: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Pressione PC: Vapore

• Operazione a P=P0 (atmosferica)

• Colonna di distillazione

• PC agisce sulla portata di refrigerante

• Eventuali incondensabili sono scaricati (valvola di sfiato)

X, 15 C. Scali, Università di Pisa

• Analoghe considerazioni per un generico condensatore

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 16: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Pressione PC: Vapore

• Operazione a P< P0 (sotto vuoto)

• PC agisce sulla portata di incondensabili (by-pass pompa di estrazione)

• PC, TC, LC, in un concentratore sotto vuoto; condensatore a superficie; scarico discontinuo

X, 16 C. Scali, Università di Pisa

di estrazione)

• TC agisce sulla portata di refrigerante

• LC agisce sul motore della

pompa (discontinuo)

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 17: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Pressione PC: Vapore

• Operazione a P< P0 (sotto vuoto)

• PC, TC in un concentratore sotto vuoto; condensatore a miscela; scarico barometrico (continuo)

X, 17 C. Scali, Università di PisaDinamica e Controllo dei Processi

Page 18: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Portata di Liquido o Gas

• Portata costante: requisito necessario per il funzionamento in moltissimi casi

• Processo con dinamica veloce; Regolatore P o PI

• FC è spesso l’anello interno di un controllo in cascata

• Schema generico FC•Schema cascata TC(YC)�FC:

X, 18 C. Scali, Università di Pisa

Disturbi sulla linea del riflusso in colonna sono eliminati da FC prima che si risentonosulla variabile di processo T

(in generale per una qualsiasi variabile Y)

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Page 19: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di una portata di liquido: Pompa Centrifuga

Schema Curva caratteristica della pompa e del circuito

• La valvola è installata sulla mandata della pompa

CClinea

CCpompa

X, 19 C. Scali, Università di Pisa

• La valvola è installata sulla mandata della pompa

• Curva Caratteristica della pompa: H(Q) decresce

• Circuito: H(Q)∝ Q2

�A valvola tutta aperta (Qmax): tutta la prevalenza è data esclusivamente dalle perdite di carico sulla linea

� Con controllo di portata Q<Qmax: la valvola introduce una ∆Pv

�Alternativa: variare il numero di giri del motore a corrente continua (uso di Inverter:più efficiente, poco usato)

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 20: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di una portata di liquido: Pompa Volumetrica

a) Valvola di regolazione sulla mandata

b) Valvola di regolazione su by-pass

• La portata è costante�necessità di by-pass

Curva caratteristica

X, 20 C. Scali, Università di Pisa

pass

• La portata è controllata agendo sul numero di giri del motore (sincrono)

- (Poco) usato

- Per piccole portate (pompe dosatrici)

Schema b) è preferito, perchè ∆Pv bilanciano ∆PL

(in a) ∆Pv si sommano a ∆PL

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 21: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di portata di un gas: Compressore Volumetrico

Valvola sul bypass

Valvola sull’aspirazione

X, 21 C. Scali, Università di Pisa

Valvola sullo scarico in mandata

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 22: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di portata di un gas: Compressore Centrifugo

• Problema: curva caratteristica P(Q) presenta instabilità

• 2 punti di lavoro� operare a Q>Qmin

X, 22 C. Scali, Università di Pisa

• QL>Qmin opera su V1, Vb rimane

chiusa

• QL<Qmin si apre Vb V1 resta

aperta; la portata Q>Qmin

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 23: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Portata di Solido - 1

Nastro trasportatore

(G= P·v)

X, 23 C. Scali, Università di Pisa

• La portata G [kg/s] è data dalla massa per unità di lunghezza P [kg/m] e

dalla velocità v [m/s] (G= P·v)

• P si misura con una cella di carico

• La portata G può essere controllata variando la velocità del motore in C.C.

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 24: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Portata di Solido - 2

Coclea

( ) fpDDG ie ⋅⋅⋅−⋅=ππππ

ωωωωππππ

24

22

X, 24 C. Scali, Università di Pisa

• La portata G dipende dalla geometria: diametro esterno ed interno (De e Di), dal passo (p), dalla velocità angolare (ω) e dal fattore di riempimento f

• La velocità angolare ω è misurata

• La portata può essere regolata variando la velocità di rotazione

• Possibilità di errori dovuti alle variazioni di riempimento della coclea

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 25: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Portata di Solido - 3

Dosatori a portata di peso (LIW)

X, 25 C. Scali, Università di Pisa

• Viene misurata la variazione di peso della tramoggia

• La velocità di rotazione della coclea è aggiustata di conseguenza

• Permette una regolazione più precisa della portata

dt

dMG =

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 26: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Temperatura: TC

• Esigenza molto comune in tutti i casi di Riscaldamento / Raffreddamento

di un fluido (solido) di processo, o di un reattore

•Si possono usare fluidi ausiliari (F.A.) o fluidi di processo (F.P.)

•F.A. per Operazioni a temperature basse:

- Acqua di torre di raffreddamento (T≥ Tmin ÷ 35°C),

di mare, fiume o sorgente (T≥ Tmin ÷ 20°C), sottoraffreddata (T≥5°C)

- Soluzioni acquose di sali inorganici (salamoie:T≥-50°C), di composti organici (glicole)

X, 26 C. Scali, Università di Pisa

- Soluzioni acquose di sali inorganici (salamoie:T≥-50°C), di composti organici (glicole)

- Fluidi frigoriferi (ammoniaca, etilene..)

• F.A. per Operazioni a temperature alte:

- Vapore d’acqua (→T= 200°C)

- Fluidi Diatermici (→T= 400°C),

- Sali Fusi (→T= 550°C)

- gas di Combustione (Forni)

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 27: Cap.X-Schemi di Controllo

TC: scambiatori

1. Riscaldatore a vapore

• Manipolata: portata vapore

3. Riscaldatore con fluido ausiliario

• Manipolata: portata fluido ausiliario.

4. Riscaldatore con fluido processo

X, 27 C. Scali, Università di Pisa

• Manipolata: portata condensato

(meno usato) • Manipolata: by-pass fluido di processo

(più veloce)

4. Riscaldatore con fluido processo

FP2

FP2

2. Riscaldatore a vapore

FP1 FP1

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 28: Cap.X-Schemi di Controllo

C, T1

Effetto del Controllo di Temperatura TC

Scambio di calore (sensibile) tra fluidi di processo: TC agisce sulla portata del fluido caldo C

t2

C

X, 28 C. Scali, Università di Pisa

C, T2

( )21 TTcCQ

TAUQ

P −⋅⋅=

∆⋅⋅=All’aumentare di C aumenta ∆T (la

differenza di temperatura)

A: costante; U: varia poco (h ∝ v0.8)

t1

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 29: Cap.X-Schemi di Controllo

Effetto del Controllo di Temperatura TC

Scambio di calore (latente) in un riscaldatore a vapore: TC agisce sulla portata di vapore Vap

TC

X, 29 C. Scali, Università di Pisa

( ) λλλλ⋅≅−⋅⋅=

∆⋅⋅=

VttcFQ

TAUQ

P 12

L’apertura della valvola provoca un aumento della pressione Pv, della Temperatura Tv e

quindi del ∆T (effetto limitato)

In realtà: Atot= ACond + ASR

Aumento ∆T maggiore�superfici maggiori usate per la condensazione del vapore�

diminuisce la superficie di sottoraffreddamento Dinamica e Controllo dei Processi

Page 30: Cap.X-Schemi di Controllo

TC: Reattori

����TC:TC: regolazione dello scambio di calore tra il mezzo in reazione e il sistema di raffreddamento; Rif: raffreddamento di reattori esotermici:A→→→→ B, Qr > 0

Per il controllo di temperatura, →→→→ T=costante→→→→ Vρρρρ Cp (dT/dt)=Qr-Qs=0

X, 30 C. Scali, Università di Pisa

• Calore di reazione: Qr=(-∆∆∆∆H) V r• Calore scambiato: Qs= U S (T- Tc) + F ρρρρ Cp (T-Ti)- V, S: volume del reattore e superficie di scambio- ρρρρ, Cp: densità e calore specifico - T, Ti, Tc: temperatura di reattore, reagenti, refrigerante- U: coefficiente di scambio di calore- r: velocità di reazione, r= A exp(-E/RT) (CA)n- CA: concentrazione di reagente

→→→→ Vρρρρ Cp (dT/dt)=Qr-Qs=0

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 31: Cap.X-Schemi di Controllo

Stabilità reattori

StabilitàStabilità deldel reattorereattore inin anelloanello apertoaperto:per un aumento di temperatura dT>0, ilcalore scambiato deve aumentare più delcalore generato(dQs/dT)To > (dQr/dT)To

→ To - Tc < R To2 / E = ∆Tc (1)

→ U S > Qro E / R To (2)

(ipotesi: calore reagenti trascurabile)

X, 31 C. Scali, Università di Pisa

Per reazioni a temperatura elevata non siusa acqua (pressione troppo elevata) mafluidi diatermici (FD).

Raffreddamento del reattore attraverso duecircuiti:1) interno: raffredda il reattore con FD2) esterno: raffredda FD con produzione

di vapore in caldaia

Significato:

(1) Fissato il sistema di raffreddamento (US) ela temperatura di operazione (To), latemperatura del refrigerante non può esseretroppo bassa:

Tc > To Tc > To -- ∆∆TcTc

Valori di ∆Tc (To) per E=10.000 [Kcal/Kmole]To= [°C] 100 200 300 400 500∆Tc= [°C] 27.3 44.3 65.0 89.7 118.4

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 32: Cap.X-Schemi di Controllo

TC nei Reattori: Calore generato e scambiato

La superficie di scambioLa superficie di scambio può essere:- Interna (serpentino, camicia): limitata dalle dimensioni del reattore- Esterna (scambiatore): non limitata, ma: fluido pompabile..

All’aumentare del volume del reattore (geometria cilindrica)Il calore generato: Qr =(-∆∆∆∆H) V r ≈≈≈≈ V ≈≈≈≈ D2 HIl calore scambiato: Qs =U S ≈≈≈≈ S ≈≈≈≈ D H

Q

X, 32 C. Scali, Università di Pisa

Q s

Q r

VmaxD

Quindi per elevati volumi di reattore, il sistema di raffreddamento interno non è più sufficiente (V>Vmax):

���� raffreddamento esterno, se possibile

���� uso di reattori in parallelo per ottenere la potenzialità richiesta

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 33: Cap.X-Schemi di Controllo

TC nei Reattori: schemi in retroazione

TCTC

X, 33 C. Scali, Università di Pisa

1) Serpentino 2) Camicia

Piccola superficie interna al reattore Superficie limitata (legata alle dimensioni)

Per entrambi: la superficie è limitata e quindi la quantità di calore

che si può scambiare ⇒⇒⇒⇒ scambiatore esterno

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 34: Cap.X-Schemi di Controllo

TC nei Reattori: schemi in retroazione

TC

TC

X, 34 C. Scali, Università di Pisa

3) scambiatore esterno

la superficie non è legata alle dimensioni del reattore;

limitazione: - fluido pompabile- non troppo viscoso...

4) scambiatore esterno + FD

raffreddamento del reattore con il sistema a camicia

generazione di vapore con lo scambiatore esterno

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 35: Cap.X-Schemi di Controllo

Schemi con più anelli di regolazione

• In aggiunta al semplice schema di controllo in retroazione, nel controllo

di base sono usati altri schemi con più di una variabile

(misurata o controllata o manipolata)

• Controllo in cascata: una variabile controllata e più variabili misurate

(V. uscita, V. intermedia)

• Controllo in Avanti: una variabile controllata e più variabili misurate

(V. uscita, V. disturbo)

X, 35 C. Scali, Università di Pisa

(V. uscita, V. disturbo)

• Controllo Selettivo(Split-Range): una controllate e più manipolate

•Controllo a Priorità (Override, Auctioneering) : una manipolata e più controllate

Seguono Esempi di applicazione….

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 36: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo in cascata

• Caratteristiche- Una sola V. MNPLT e una sola V. CTRLT (Y)- Più variabili MSRBL (Y, Y2); Y2 risente prima di un disturbo d1

→→→→ due (o più) anelli di regolazione: interno (secondario), esterno (primario)

• Vantaggi- Neutralizzazione più rapida del disturbo d1- maggiori vantaggi quando il processo interno P1 è più veloce rispetto al processo esterno P2)

X, 36 C. Scali, Università di Pisa

Schema Risultati

rispetto al processo esterno P2)

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 37: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo in Avanti

Caratteristiche:- Una sola V.MNPL e una sola V.CTRLT- Disturbi Misurabili: controllo in avanti (FF)più retroazione (FB)- specifico per un disturbo-

Schema FF + FB(d= FA; y= CA)

CFB P

Pd

r

-

y

d

CFF

-

Vantaggi:- neutralizzazione più rapida di d- maggiori vantaggi per

X, 37 C. Scali, Università di Pisa

Risposte- OL: senza controllo- FB: in retroazione- FF1: in avanti (disturbo più lento)- FF2: in avanti (disturbo più veloce)

Vantaggi con FF, ma basato su modelloCff=- Pd / P

- maggiori vantaggi per processo più veloce del disturbo

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 38: Cap.X-Schemi di Controllo

TC nei Reattori: cascata

• Nel caso di disturbi che entrano nelreattore attraverso il sistema diraffreddamento (d1), la camicia vieneinfluenzata prima del reattore.

• Il controllo della temperatura dellacamicia (anello interno) ne permetteun abbattimento più rapido.

• Il controllo della temperatura delreattore (anello esterno) garantisce la

X, 38 C. Scali, Università di Pisa

reattore (anello esterno) garantisce lasoppressione di altri disturbi (d2).

Schema Risultati

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 39: Cap.X-Schemi di Controllo

Colonna di Distillazione: Cascata CC su TC

Spesso il controllo della composizione di un prodotto (es. distillato D) è affidato al controllo di temperatura di un piatto (“piatto pilota” TPP)

�Infatti la composizione è difficile da misurare in linea in automatico (strumentazione costosa, non affidabile, introduzione di ritardi)

�La temperatura e la composizione sono legate (a P costante)

X, 39 C. Scali, Università di PisaDinamica e Controllo dei Processi

Page 40: Cap.X-Schemi di Controllo

Colonna di Distillazione: Cascata CC su TC

� Disturbi su portata e composizione dell’alimentazione sono neutralizzate dal controllo TPP

� In genere TC è sufficiente

� In qualche caso si aggiunge una cascata CC su TC; in questo modo si fa uso di misure (anche periodiche) della composizione

X, 40 C. Scali, Università di Pisa

TC CC

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 41: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Concentrazione nei Reattori

–Riferimento reattore continuo con reazione A + B ���� C (ad esempio neutralizzazione)

– La composizione in uscita spesso non è misurabile in tempo reale– Il controllo in retroazione in ogni caso interviene dopo che il disturbo si è risentito in uscita

���� Controllo in Avanti, Controllo di Rapporto

Controllo in Avanti• Disturbo sulla portata F (misurabile)

FF

+

+

FA

FB

X, 41 C. Scali, Università di Pisa

• Disturbo sulla portata FA (misurabile)• Il regolatore in avanti intervieneimmediatamente e fa variare FB

• È un’azione in anello aperto: manca laverifica sull’uscita CA

• Inoltre possono essere presenti altridisturbi (es. concentrazione di A in FA)

• Se la concentrazione in uscita èmisurabile, si aggiunge controllo inretroazione (interruttore chiuso)

• Il controllo di composizione si aggiungeagli schemi base di controllo di livello edi temperatura

LC

TC

TC

CC

CA

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 42: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo di Concentrazione nei Reattori

rFC

FF

FA FB

Controllo di rapporto

• La portata FA è la variabileindipendente (misurabile)

• La portata FB è alimentata in rapportocostante

• Funzionamento analogo al controlloin avanti

• È un’azione in anello aperto: manca la

X, 42 C. Scali, Università di Pisa

LC

TC

TC

CC

• È un’azione in anello aperto: manca laverifica sull’uscita

• Inoltre presenza di altri disturbi (es.concentrazione di A in FA)

• Una misura di concentrazione inuscita permette di variare il rapportodei due reagenti e ottenere uncompleto abbattimento del disturbo(interruttore chiuso)

• Il controllo di composizione siaggiunge agli schemi base dicontrollo di livello e di temperatura

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 43: Cap.X-Schemi di Controllo

Forni: schema base

L’obbiettivo del sistema di controllo e’ quello di mantenere la temperatura in uscita dal forno ad un valore prefissato.

La più semplice configurazione,

X, 43 C. Scali, Università di Pisa

La più semplice configurazione, per raggiungere l’obbiettivo, e’ un controllo in retroazione (PI)utilizzando la portata di combustibile come variabile manipolata.

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 44: Cap.X-Schemi di Controllo

Forni: Risposta con controllo PI

Variable controllataSet Point

Te

mp

era

tura

Possibili oscillazioni della temperatura di uscita.

Le cause possono essere ricercate sia:

X, 44 C. Scali, Università di Pisa

Te

mp

era

tura

Tempo

- fluttuazioni della variabile manipolata

- dinamica del forno

Dinamica e Controllo dei Processi

Page 45: Cap.X-Schemi di Controllo

Forni: Combustibili Diversi

I combustibili utilizzati nei forni

sono generalmente di due tipi:

� Liquidi

� Gassosi

Questi ultimi derivano dalla rete

gas dell’impianto e il loro utilizzo,

K Σ-

+

Richiest a

t ot ale

X, 45 C. Scali, Università di Pisa

gas dell’impianto e il loro utilizzo,

reso necessario per motivi

economici, e’ soggetto alla sua

disponibilita’.

I forni possono essere alimentati

utilizzando entrambi i tipi di

combustibile.

FC FC

Fuel Gas Oil

-

Bruciat or i

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Page 46: Cap.X-Schemi di Controllo

Forni: Controllo in cascata

Quando si usa fuel gas come combustibile, si possono avere variazioni di portata, a set-point della valvola costante (OP costante).

X, 46 C. Scali, Università di Pisa

(OP costante).

Per ovviare a questo problema si utilizza una configurazione di controllo in cascata.

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Page 47: Cap.X-Schemi di Controllo

Forni: Controllo in avanti (FF) + retroazione (FB)

Ritardi nella risposta ad una variazione della temperatura o portata in ingresso causano delle fluttuazioni nella variabile controllata (temperatura in uscita)

Per ovviare a questo problema si

X, 47 C. Scali, Università di Pisa

Per ovviare a questo problema si utilizza una configurazione di controllo FF + FB.

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Page 48: Cap.X-Schemi di Controllo

Forni: Risposte con controllo FB e FB + FF

Variable controllataSet Point

Tem

pera

tura

Variabile controllataSet Point

Tem

pera

tura

X, 48 C. Scali, Università di Pisa

Tem

pera

tura

Tempo

Controllore PI Controllore FF/FBT

em

pera

tura

Tempo

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Page 49: Cap.X-Schemi di Controllo

Forni: Controllo Rapporto Aria / Combustibile

La richiesta di aumento/diminuzione della quantità’ di calore e’ realizzata tramite una corrispondente variazione di portata di combustibile. Al fine di massimizzare l’efficienza di combustione, la portata d’aria

X, 49 C. Scali, Università di Pisa

combustione, la portata d’aria comburente deve essere modificata mantenendo il rapporto aria/combustibile ad un valore costante.

Ciò viene realizzato utilizzando una configurazione di controllo di rapporto.

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Page 50: Cap.X-Schemi di Controllo

Forni: Controllo Aria / Combustibile

A causa di possibili variazioni della qualità del combustibile, il rapporto ottimale aria/combustibile, non può essere mantenuto.

X, 50 C. Scali, Università di Pisa

Un modo per ovviare a questo problema e’ quello di misurare l’ossigeno residuo e, tramite questo o controllare direttamente l’aria o aggiornare il rapporto aria combustibile.

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Page 51: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo A Priorità

Caratteristiche

Il controllo a priorità viene utilizzato in sistemi nei quali si devono controllareuscite multiple (variabili controllate, VC) con una sola variabile manipolata (VM)( o piú in generale quando VM < VC).

Poiché ogni VM consente il controllo di una sola VC, il controllo vienetrasferito da una variabile all’altra a seconda delle condizioni di eserciziorealizzate.

X, 51 C. Scali, Università di Pisa

I sistemi di controllo a priorità sono generalmente impiegati per proteggereunità e/o la qualità di prodotti in condizioni di funzionamento non normali(per esempio, situazioni di emergenza), mantenendo un controllo piuttostoche richiedere l’arresto dell’unità stessa.

Esistono almeno due diversi tipi di controllo a priorità:

controllo Override;

controllo Auctioneering.

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Page 52: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo Override

Il sistema controllo override permette, in situazioni di emergenza, di passare dalcontrollo di una variabile di uscita a quello di un’altra (loop switching) pergarantire un funzionamento sicuro dell’unità.

Tipiche applicazioni di controllo override sono quelle nelle quali una variabile diuscita non deve superare un valore limite massimo o minimo.

Prevenzione di condizioni di malfunzionamento a rischio (per l’unitá e/o

per gli operatori) (tipico delle fasi transitorie, di avviamento e/odi arresto).

X, 52 C. Scali, Università di Pisa

uscita non deve superare un valore limite massimo o minimo.

Componente primario di un sistema di controllo override è il selettore (dimassimo, HS, o di minimo, LS).

Il selettore HS (LS) interviene ogniqualvolta la variabile critica aumenta(diminuisce) oltre il valore massimo (minimo) consentito.

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Page 53: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo Override: Protezione di una caldaia

Obiettivo: controllare la pressione della caldaia agendo sulla portata di vapore prodotto (loop 1).

Problema: mantenere il livello dell’acqua, L, al disopra di un valore minimo, Lmin, per garantire la completa immersione del serpentino di riscaldamento.

X, 53 C. Scali, Università di Pisa

Soluzione: Finché la portata di vapore richiesta è tale che L > Lmin, è attivo il controllo di pressione ”anello normale” (loop 1).

Quando L < Lmin, il selettore di minimo, LSS, trasferisce il controllo al controllore di livello(loop 2).

In ogni caso, durante il funzionamento “anormale”

P > Psp

il sistema override garantisce un funzionamento sicuro.

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Page 54: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo Auctioneering

Nel sistema di controllo auctioneering l’anello di controllo non cambia, cióche puó variare è la variabile controllata: tipicamente é la variabile diuscita (misura) che, tra un insieme di variabili simili, presenta il valoremassimo.

Tipiche applicazioni di controllo auctioneering si ritrovano nei sistemi aparametri distribuiti dove si desidera evitare che una variabile di

X, 54 C. Scali, Università di Pisa

parametri distribuiti dove si desidera evitare che una variabile diprocesso critica superi un valore limite massimo (per esempio, latemperatura in reattori tubolari).

Componente primario di un sistema di controllo auctioneering è ilselettore di massimo, HS, che permette di selezionare, in modoautomatico, la misura “piú critica” (maggiore).

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Page 55: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo Auctioneering: Controllo del Picco di Temperatura in Reattori Tubolari

Obiettivo: controllare il picco di temperatura (hot spot) che si manifesta in reattori tubolari catalitici utilizzati per reazione fortemente esotermiche (per esempio, ossid. di o-xilene o naftalene per produrre anidride ftalica). La variabile manipolata è la portata di fluido refrigerante.

Problema: la posizione del picco di temperatura si muove lungo il reattore a seconda delle condizioni operative (portata

X, 55 C. Scali, Università di Pisa

seconda delle condizioni operative (portata e concentrazione di ingresso, temperatura) e dello stato di disattivazione del catalizzatore.Soluzione: si dispongono diverse termocoppie lungo il reattore, e si affida ad un sistema di auctioneering (ovvero, un selettore di massimo) il compito di selezionare la massima temperatura da inviare al controllore. In questo modo, si può ragionevolmente pensare di individuare la posizione del picco di temperatura (hot spot).

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Controllo Selettivo (Split-Range)

Il controllo split-range viene utilizzato in sistemi nei quali si deve controllare unasingola uscita (variabile controllata, VC) con piú variabili manipolate (VM) ) (o piú ingenerale quando il VM > VC).

Avendo una sola VC avremo anche un solo segnale di uscita dal controllore,segnale che verrá suddiviso (in modo opportuno) ed inviato ai singoli attuatoridelle variabili manipolate disponibili.

X, 56 C. Scali, Università di Pisa

I sistemi di controllo split-range non sono molto comuni, ma in alcuni casipossono:

fornire migliori condizioni di sicurezza;

migliorare le prestazioni ottimali dell’unità.

In altre parole si controlla una singola variabile di uscita coordinando

le azioni su diverse variabili manipolate, ciascuna delle quali ha lo

stesso effetto sulla variabile controllata).

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Controllo Selettivo (Split-Range): Controllo della Pressione in un Reattore

Obiettivo: mantenere la pressione desiderata nel reattore, agendo sulle portate dei reagenti e dei prodotti.

Problema: é necessario un coordinamento delle azioni sulle due valvole.

X, 57 C. Scali, Università di Pisa

Soluzione: programmare l’apertura-chiusura delle valvole in modo coordinato per ottenere una prestazione migliore. Un possibile programma di apertura-chiusura valvole é quello indicato nella figura.

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Page 58: Cap.X-Schemi di Controllo

Controllo Selettivo (Split-Range): Temperatura di un Reattore Discontinuo

Obiettivo: Imporre un profilo di temperatura variabile nel reattore:

- riscaldamento iniziale,

- raffreddamento isotermo,

- riscaldamento finale

Variabile operativa: Temperatura della camicia; necessario un intervento su:

X, 58 C. Scali, Università di Pisa

- portata vapore,

- acqua di raffreddamento,

- acqua sottoraffreddata,

- vapore

Soluzione: programmazione apertura/chiusura delle valvole in modo coordinato

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