Allegato 3 – Presentazione candidatura (Università degli Studi di Trieste)

Al Magnifico Rettore Università degli Studi di Trieste

Piazzale Europa 1 34127 Trieste

PEC: ateneo@pec.units.it

Oggetto: presentazione candidatura progetto HEaD – Call for project Operazione 2 Dati impresa

Ragione Sociale: THUNDERNIL SRL

P.IVA/ Codice Fiscale:04407320284

Codice ATECO: 72.19.09

Cognome e nome del rappresentante legale: TORMEN MASSIMO

Cognome e nome del compilatore della candidatura e recapito telefonico: Tormen Massimo Tel ufficio: +39 040 375 8416 Cell : +39 347 1548768

Sede legale: Via Ugo Foscolo nr 8 – 35131 Padova (PD)

Sede operativa (se la sede legale non è in FVG): Area Science Park Basovizza Ed Q SS 14 Km 163.5 34149 Trieste (TS)

Indirizzo PEC: thundernil@pec.it

N. addetti: 5

Breve descrizione dell’attività aziendale (max 500 caratteri): ThunderNIL srl (www.thundernil.com) è stata fondata nel 2009 essendo risultata vincitrice del premio internazionale "Nanochallenge" che ha fornito i fondi di startup dell’impresa. La società è nata con l'obiettivo di valorizzare una tecnologia di nanofabbricazione ideata, brevettata e sperimentata da Massimo Tormen, ricercatore dell'Istituto Nazionale Fisica della Materia (ora assorbito nel CNR). ThunderNIL offre attualmente: 1- Servizi di micro e nano-fabbricazione (rivolti prevalentemente ai centri di ricerca industriale ed

accademica), 2- Strumentazioni. In particolare, ThunderNIL stà promuovendo il suo nuovo macchinario ULISS (http://www.thundernil.com/products/,12), 3- Stampi speciali (con riscaldatore integrato), per la tecnologia Pulsed-NIL. 4- Licenze d'uso del processo proprietario.

Descrizione della proposta progettuale

Titolo: Rivestimenti ceramici per nano-stampa ultraveloce di materiali metallici

Area S3 e relative traiettorie di sviluppo di riferimento: FILIERE PRODUTTIVE STRATEGICHE, Trasversale a tutte le traiettorie di sviluppo.

Durata del progetto (in mesi): 18 mesi

Obiettivi progettuali e loro cronoprogramma – GANTT Il progetto ha tra i suoi obiettivi lo sviluppo di materiali ceramici avanzati per la realizzazione di un processo di stampa ultraveloce di nanostutture su superfici metalliche. Lo sviluppo di tali materiali ceramici si tradurrà in innovazioni sia di prodotto che di processo nell’ambito della filiera produttiva metalmeccanica, ed in particolare nei trattamenti di finitura delle superfici (“surface finishing”). ThunderNIL srl ha già sviluppato un processo ultraveloce di stampa di nanostrutture su materiali plastici che permette la realizzazione di ologrammi ed effetti di finitura superficiale ad imitazione di processi meccanici tradizionali (satinatura, spazzolatura, sabbiatura, etc). Per questo processo vengono fabbricati degli stampi con una speciale struttura a strati e nanostrutturati in superficie con tecniche litografiche avanzate. La funzionalità dello stampo dipende dalla sua architettura a strati, mentre il pattern di nanostrutture, che rappresenta la parte variabile dello stampo, viene progettato al CAD grazie ad un software sviluppato all’interno di ThunderNIL. Questo fatto consente una flessibilità e libertà nella realizzazione di effetti di surface finishing non ottenibili con i metodi comuni. Per inquadrare la problematica scientifica da affrontare nell’ambito del progetto è necessario fornire i cenni minimi relativi al processo di stampa di nanostrutture sviluppato da ThunderNIL, che và sotto il nome di Pulsed Nanoimprint Lithography (Pulsed-NIL). In estrema sintesi tale processo è basato sull’utilizzo di stampi con un riscaldatore bidimensionale integrato, in grado di far compiere all’lintera superficie dei cicli termici a temperature molto elevate (500-600 °C), in tempi dell’ordine di ~100 µs, partendo da temperatura ambiente. Alle temperature raggiunte durante l’impulso di riscaldamento l’indentazione delle nanostrutture avviene all’interno della durata di un ciclo termico ultraveloce. La tecnica del Pulsed-NIL rappresenta una evoluzione significativa rispetto le tecniche di hot embossing e del nanoimprinting termico convenzionale (che hanno cicli dell’ordine di alcuni minuti), ed apportano due principali vantaggi: i) un’elevatissima produttività, ii) l’eliminazione delle problematiche dovute alla deformazioni macroscopiche degli oggetti stampati (interessando uno strato sottilissimo della superficie del manufatto). Tale processo, descritto in maniera più approfondita al sito www.thundernil.com, è schematizzato brevemente in figura 1.

Fig. 1 principio di funzionamento del processo Pulsed-NIL.

Fig. 2 Principale differenza tra il processo hot-embossing e Pulsed-NIL.

Fig. 3 Strumentazione sviluppata da ThunderNIL per il processo Pulsed-NIL.

Fig. 4 Esempi di pattern micro-/nano- struttturati stampati con la tecnica del Pulsed-NIL. Il presente progetto si prefigge di estendere la stampa ultraveloce di nanostrutture Pulsed-NIL ai metalli, per i quali si prevede un processo diretto e/o un processo indiretto. Nel caso di nanopatterning diretto, lo stampo dovrà realizzare un ciclo termico che superi la temperaturatura di fusione del metallo e le nanostrutture dello stampo saranno direttamente indentate nel metallo. Nel caso di processo indiretto invece verrà nanostrutturata una sottile pellicola di un polimero termoplastico (ad es. PMMA) depositata sulla superficie metallica. Quest’ultima, una volta stampata col processo Pulsed-NIL, viene usata come “maschera” per un successivo processo di erosione chimica del metallo (nelle aree non protetta dalla maschera della superficie del metallo). In entrambi i casi il processo richiede delle significative innovazioni nei materiali di cui è costituito lo stampo. Attualmente, lo stampo per il processo Pulsed-NIL è ottenuto a partire da un substrato di silicio, fortemente drogato alla superficie, in modo da creare uno strato ad elevata conducibilità rispetto al volume del substrato. Un impulso ad alta tensione (tipicamente di migliaia di V) applicato attraverso contatti posti a due lati opposti dello stampo produce una intensa corrente (dell’ordine di migliaia di A) che scorre prevalentemente su uno strato superficiale di pochi micrometri.

Il problema tecnologico principale che si incontra tentando di applicare il processo Pulsed-NIL alla superficie di un metallo, sia con processo diretto che processo indiretto è dovuto alla comparsa di scariche elettriche tra stampo e substrato. Con alcuni accorgimenti tecnologici, è stato possibile tuttavia dimostrare la possibilità di stampare con il processo indiretto un sottile film (~100 nm) termoplastico su superficie metallica (senza incorrere in scariche elettriche), realizzando alla superficie dello stampo un pattern di nanostrutture in materiali di tipo Sol-Gel (Ormocer, MicroResist Technologies GmbH). Tali materiali, una volta induriti (reticolati) tramite esposizione UV, risultano possedere alcune caratteristiche idonee alla realizzazione del processo Pulsed-NIL su superficie metallica. In particolare gli Ormocer sono dei dielettrici, e questo per spessori sufficienti (alcuni micrometri), tende ad elminare il problema delle scariche elettriche. L’introduzione di questo strato di materiale rappresenta però una barriera termica che tende a diminuire l’efficacia dell’impulso di riscaldamento. Le principali caratteristiche desiderate per il materiale ceramico da realizzare sono pertanto le seguenti: 1- Elevata rigidità dielettrica 2- Elevata conducibilità termica 3- Possibilità di deposizione in film sottili 4- Possibilità di nanostrutturazione mediante molding e successiva reticolazione (UV o termica) 5-Elevata resistenza a stress termici e meccanici Il progetto si articolerà in 3 Work Packages che saranno descritti nella sezione seguente. Il cronoprogramma delle attività è riportato qui di seguito.

GANT Chart

Trim

1

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2

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3

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4

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5

Trim

6

Workpackage 1: Ceramiche a base di ORMOCER modificato

Task 1.1:Dispersione di filler (AlN, BN) in matrice di Ormocer Task 1.2: Preparazione dell’Ormocer modificato, deposizione in film sottili, nanopattern dell’ormocer e sua reticolazione Task 1.3: Caratterizzazione delle proprietà dielettriche e termiche di Ormocer modificati

Workpackage 2: Film di nitruro di alluminio (AlN) mediante Sputtering reattivo

Task 2.1: Sviluppo del processo di deposizione dell’AlN mediante sputtering reattivo

Task 2.2: Misura delle proprietà dielettriche del film

Task 2.3: Relizzazione di stampi con Ormocer su film di AlN

Workpackage 3: Stampa diretta o indiretta di materiali metallici con stampi a

base di compositi e/o multistrati Task 3.1: Stampa di ologrammi e/o effetti di surface finishing su metalli con processo indiretto Task 3.2: Stampa di ologrammi e/o effetti di surface finishing su Alluminio o ZAMA con processo diretto

Task 3.3: Valutazione tecnica dei risultati conseguiti

Piano di attività – suddiviso in Work Packages - WP Il progetto si articolerà in 3 Work Packages, dedicati allo sviluppo e al test dei materiali. Le differenti soluzioni qui sviluppate contribuiranno in modo sinergico alla risoluzione del problema tecnologico brevemente delineato nella sezione Obiettivi progettuali. Il WP1, dal titolo Ceramiche a base di ORMOCER modificato, si occuperà di migliorare l’opzione tecnologica preliminarmente individuata e disponibile, basata sull’impiego di Sol-Gel commerciali di tipo Ormocer. Le modifiche migliorative del materiale nella direzione richiesta dal tipo di impiego desiderato verranno ricercate tramite inclusione di fillers, puntando in particolare ad 1- aumentare i coefficiente di scambio termico 2- aumentare la rigidità dielettrica 3- rendere possibile il deposito di film più sottili (diminuendo per es. la viscosità del precursore in fase di realizzazione dello stampo), con conseguente riduzione della barriera termica. Tra i primi candidati alla funzione di filler troviamo le polveri microcristalline di materiali ceramici, quali il Nitruro di Alluminio (AlN) o il Nitruro di Boro (BN). Il nitruro di alluminio mostra infatti elevate conducibilità termiche (70-210 W/m/°K) ed elevate rigidità dielettrica di (17 kV/mm, mentre per il nitruro di boro sono riportati valori inferiori di conducibilità termica (20-27 W/m/°K) ma superiori per rigidità dielettrica (35-80 kV/mm). La conducibilità termica dell’ORMOCER invece è dell’ordine di 2-2.5 W/m/°K, mentre non sono disponibili valori attendibili della sua rigidità dielettrica. E’ pertanto ragionevole attendersi dal processo di filling dell’Ormocer con micro-polveri di Nitruro di Alluminio (AlN) o di Nitruro di Boro (BN) un miglioramento della conducibilità termica e forse anche della rigidità dielettrica. Il workpackage 1 si occuperà della sintesi del materiale, in particolare del problema di disperdere uniformemente il filler all’interno della matrice di ORMOCER, di caratterizzare il materiale ottenuto con tecniche di microscopia elettronica (SEM), e attraverso misure del coefficiente di scambio termico e della rigidità dielettrica. Inoltre verranno eseguiti test del processo Pulsed-NIL in modo da determinare concretamente come la diversa formulazione dell’Ormocer modificato si ripercuota sui parametri del processo Pulsed-NIL (potenza e durata minima degli impulsi, tensione massima prima della rottura del dielettrico, stabilità del materiale per cicli ripetuti). Il Workpackage si articolerà ulteriormente in tre tasks: Task 1.1: Dispersione di filler (AlN, BN) in matrice di Ormocer Task 1.2: Preparazione dell’Ormocer modificato, deposizione in film sottili, nanopattern dell’ormocer e sua reticolazione Task 1.3: Caratterizzazione delle proprietà dielettriche e termiche di Ormocer modificati Il WP2, Film di nitruro di alluminio (AlN) mediante Sputtering reattivo, si occuperà della sintesi/deposizione di film di nitruro di alluminio sul substrato di silicio che funge da stampo per il processo Pulsed-NIL. L’approccio qui perseguito è di introdurre uno strato intermedio che funga da barriera dielettrica tra il substrato di silicio e lo strato di materiale recante le nanostrutture dello stampo. Tale strato intermedio dovrebbe al contempo presentare elevata rigidità dielettrica ed elevata conducibilità termica, ma non dovrebbe essere nano-strutturato, riducendo così il numero delle specifiche vincolanti cui il materiale deve soddisfare. Di converso, lo strato di materiale nanostrutturato esposto alla superficie dello stampo, essendo depositato su uno strato dielettrico di nitruro di alluminio beneficerebbe di condizioni più rilassate in termini di proprietà dielettriche; questo consentirebbe di focalizzare l’ottimizzazione sulle altre caratteristiche (conducibilità termica, proprietà meccaniche, facilità di impiego nei processi di nanostrutturazione). Tale strato potrebbe essere ancora una volta ORMOCER (modificato o non), anche se altri materiali potrebbero essere usati, inclusi materiali conduttori o semicondttori. Con questo WP si mira in sostanza a semplificare il problema dell’ottimizzazione del materiale, separando in due gruppi le proprietà che due materiali devono congiuntamente garantire. Task 2.1: Sviluppo del processo di deposizione dell’AlN mediante sputtering reattivo

Task 2.2: Misura delle proprietà dielettriche del film Task 2.3: Relizzazione di stampi con Ormocer su film di AlN Il WP3, dal titolo, Stampa diretta o indiretta di materiali metallici con stampi a base di compositi e/o multistrati si occuperà della implementazione ed ottimizzazione dei processi di stampa ultraveloce della superficie di metalli sia per via diretta che indiretta. Il processo di stampa indiretto sarà realizzato depositando attraverso un processo di spin-coating un film sottile di materiale termoplastico su lastrine metalliche, per esempio di acciaio o acciaio cromato (il processo di spin-coating potrà essere sostituito in una fase industriale da un processo di spray coating, più adatto a superfici estese e ad oggetti massivi). Il processo di stampa diretto sarà applicato all’alluminio (liquido a 660 °C) o al ZAMA una lega (zinco alluminio magnesio rame). basso fondente (punto di fusione ~420 °C). Sarà dimostrata la realizzazione di ologrammi e/o effetti di surface finishing. Saranno individuata le condizioni per poter realizzare il processo senza incorrere nel problema delle scariche elettriche e sarà valutata la durata di vita dello stampo misurata come numero di stampaggi possibili prima che la sua degradazione renda qualitativamente inaccettabili i risultati del processo. Il Workpackage si articolerà ulteriormente in tre tasks: Task 3.1: Stampa di ologrammi e/o effetti di surface finishing su metalli con processo indiretto Task 3.2: Stampa di ologrammi e/o effetti di surface finishing su Alluminio o ZAMA con processo diretto Task 3.3: Valutazione tecnica dei risultati conseguiti

Fig. 5 Esempio di “palette” di effetti di surface finishing ottenuti su PET con la tecnica del Pulsed-

NIL.

Fig. 5 Esempio di acciai patternati per via indiretta (nanostrutturazione del film termoplastico, seguito da processo di erosione chimica).

Risultati attesi - alla fine del progetto e alla fine del periodo dell’assegno se diversi

Il risultato principale atteso alla fine del progetto è la dimostrazione di un processo ultraveloce di stampa di nanopattern estesi su superfici metalliche. L’obiettico sarà considerato pienamente raggiunto quando sarà possibile ottenere in modo riproducibile un numero sufficientemente elevato di processi di stampa (>100) della superficie di un metallo (per via diretta e/o indiretta) con un singolo stampo. Il processo di stampa diretto sarà applicato all’alluminio (liquido a 660 °C) o ad una lega basso fondente (zama, con punto di fusione ~420 °C). Su questi sarà dimostrata la realizzazione di ologrammi e/o effetti di surface finishing. Lo sviluppo di più soluzioni alternative per la realizzazione degli stampi per Pulsed-NIL consentirà inoltre di affrontare casi diversi di applicazioni di interesse industriale, adattando ed ottimizzando le soluzioni grazie alla ricerca in scienza/tecnologia dei materiali ceramici sviluppata e alla conoscenza conseguitane. Alla fine del periodo dell’assegno, saranno stati sviluppati i protocolli di sintesi degli strati ceramici, la loro nanostrutturazione alla superficie dello stampo, e le prove preliminari di funzionamento della tecnica Pulsed-NIL su metallo.

Impatto della ricerca sul settore produttivo di riferimento Il progetto rappresenta un tassello di una visione ampia e con prospettive di lungo termine. In generale, come dimostrato dalla letteratura scientifica, la nanostrutturazione delle superfici può introdurre nuove e potenzialmente utili funzionalità delle superfici (consentendo di rendere per esempio, superidrofobiche, antiriflesso, anti-ice/anti-fog, le superfici di materiali differenti) e offrire nuove possibilità anche nel campo dell’estetica. Infatti la nanostrutturazione delle superfici consente di conquistare un elevato grado di controllo nel redirigere, attenuare, scomporre la luce, permettendo così di creare sofisticati ed interessanti effetti estetici. Questo è un ambito ad oggi in parte inesplorato, e sfruttato solo in alcuni campi applicativi. Tra questi troviamo i sistemi per l’anticontraffazione e la sicurezza dei prodotti (ologrammi apposti come etichette adesive ai prodotti, banconote, carte di credito etc...), e del packaging (ad esempio per il confezionamento di

regali in bustine plastiche con effetti iridescenti, prodotte con tecniche di stampa continua di tipo roll-to-roll). In realtà, il potenziale che può venire a crearsi dal connubio tra micro-/nano-tecnologie e design artistico può investire un ambito molto ampio di prodotti. In particolare ad oggin è assolutamente non sfruttata la possibilità di realizzare oggetti di design con superficie nanostrutturata. Il problema della difficoltà e dalla lentezza dei processi di nanopatterning, ha forse impedito che venisse immaginato e concretizzato uno scenario in cui la superficie di oggetti di ogni giorno possa venir modificata, colorata, resa interessante da motivi estetici progettati a scala nanometrica. Il processo Pulsed-NIL è in linea di principio in grado di sfruttare questa potenzialità, in quanto è un processo ad altissima produttività, in grado di seguire gli elevati volumi di produzione richiesti dall’industria moderna. L’applicazione del processo a superfici metalliche consentirà la realizzazione di:

- Loghi ed ologrammi direttamente realizzati sulla superficie di prodotti metallici - Effetti di finitura delle superfici in funzione decorativa.

I settori a cui potranno essere applicati tali sviluppi saranno quello dei prodotti di lusso (quadranti di orologi, gioielli), accessori nei prodotti di moda (targhette metalliche, fibie, etc...), espositori per negozi, maniglie e rubinetterie; potrà essere sfruttato per garantire l’originalità di parti di ricambio metalliche, etc... Valore aggiunto derivante all’azienda dalla realizzazione del progetto (es. prospettive di crescita aziendale, occupazionale, del settore, etc Il progetto riveste una grande importanza nello sviluppo delle potenzialità della tecnica Pulsed-NIL e nasce da una chiara e concreta esigenza di risolvere un problema tecnologico che ha la sua origine ed una sua probabile soluzione nella scienza e tecnologia dei materiali. Le possibilità tecnologiche che ThunderNIL stà sviluppando mirano a creare un nuovo business non attraverso un percorso incrementale di miglioramento di prodotti e processi esistenti, ma con l’introduzione di qualcosa di profondamente innovativo, sia sul fronte della tecnologia che su quello delle applicazioni. Il fattore abilitante è basato sulla nanotecnologia da un lato, ma questa andrà a combinarsi con settori industriali importanti legati al design, all’arredamento, alla moda etc.. L’idea imprenditoriale alla base dell’attività di ThunderNIL è di fornire ad industrie appartenenti a vari ambiti produttivi una nuova potente tecnologia, una “enabling technology”, nell’ambito delle micro e nanofabbricazione. La tecnologia Pulsed-NIL apporta efficienza (in termini di consumo energetico, rapidità di esecuzione e costo), migliora qualitativamente le lavorazioni ed amplia le possibilità tecniche. In particolare il presente progetto consentirà di ampliare la classe di materiali “nanostrutturabili” andando ad includere tra questi i metalli. ThunderNIL sta sviluppando il proprio business con prodotti e servizi innovativi:

Come confermato da diverse commesse giunte a ThunderNIL principalmente dall’estero, i propri servizi di sviluppo cominciano ad essere apprezzati e richiesti. Quest’annoil Korean Institute of Materials and Machinery (KIMM) della Corea ha acquistato da ThunderNIL un primo strumento, consegnato a Novembre 2016. La fornitura di stampi, e il licencing della tecnologia, pur non essendo ancora formalizzati in contratti di fornitura, sono prossimi ad uno sbocco di mercato. ThunderNIL ha un proprio business plan, fondato su ipotesi ragionevoli e su alcuni dati di mercato disponibili, che le consentono di prevedere una crescita dell’impresa dagli attuali 5 impiegati ai 25 dipendenti nel 2021, con un incremento medio annuo degli occupati del 37%, e del fatturato superiore al 50%.

Spazi, attrezzatura e materiale a disposizione dell’assegnista: Il ricercatore incaricato del progetto avrà accesso alle strumentazioni sviluppate da ThunderNIL srl per la tecnica dell’ultrafast NIL. Inoltre grazie alla convenzione in essere tra ThunderNIL e l’istituto IOM-CNR, avrà accesso a un parco di strumentazioni per la nanofabbricazione ampio e di qualità. La lista dei laboratori e delle principali strumentazioni disponibili è la seguente: Laboratori

o Camere pulite (cleanroom) attrezzate per complessivi 200 mq. o Cappe chimiche, Spin coaters, piastre riscaldanti,sistemi di purificazione per acqua

milli-Q, glove box, etc…

Strumentazioni di nano-litografia o Sistema combinato per la litografia elettronica ed ionica (Dual-beam LEO XB1540) o Sistema per litografia a raggi X ad alta risoluzione, presso la beamline LILIT di

Elettra. o Tecniche di Nanoimprint & Soft Lithography o Mask aligner per litografia UV (a 365 nm) o Sistema per nanoimprint lithography di tipo UV-NIL o Litografia soft, micro-contact printing etc…

Strumentazioni per la deposizione di film sottili o Sistema per sputtering reattivo con ampia selezione di target (metalli,

semiconduttori ed ossidi) o Evaporatori per metalli in alto vuoto o Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD), per crescita di materiali a

base di silicio o Bagni galvanici

•MACCHINARI PULSED

NIL

•STAMPI PULSED NIL

•SUPERFICI LAVORATE

CON LA TECNICA PULSED

NIL

PRODOTTI

•SERVIZI DI RICERCA E

SVILUPPO

•LICENCING

•CAMPIONI SCIENTIFICI

ED INDUSTRIALI

•CONSULENZA

SERVIZI

Strumentazioni per attacchi (etching) di tipo “dry” e “wet” o Sistema con accoppiamento capacitivo per Reactive Ion Etching (RIE) o Sistema di etching ai plasmi reattivi del tipo Inductive Coupled Plasma (ICP) o Etching di tipo chimico in fase liquida

Tecniche di caratterizzazione o Microscopia elettronico a scansione (SEM) con detector per l’analisi elementale

(microanalisys, EDX) o Microscopia ottica o Spettroscopia Raman (micro-Raman) o Misure elettroniche con Semiconductor parameter analyzer Agilent 1500A (misure

di tipo I-V e C-V, con risoluzione di 1 fA , 1 µV) o Spettrometro (200-1100 nm) o Microscopia a Forza Atomica

Strumentazioni di caratterizzazione disponibili presso l’Università di Trieste, potranno essere un importante complemento alla strumentazione di ThunderNIL e dell’istituto IOM, nella realizzazione della ricerca qui proposta. Infine, ma certamente non meno importante per il successo del progetto sarà il poter contare sulle ampie e profonde competenze in scienza ed ingegneria dei materiali del Prof. Sergo, che ha svolto tra l’altro attività di ricerca nell’ambito dei materiali ceramici. Tutor aziendale (nome, email, telefono): Tormen Massimo e-mail: massimo.tormen@thundernil.com tel ufficio: +39 040 375 8416 cell: + 39 347 1548768 Docente/ricercatore dell’Università degli Studi di Trieste di riferimento (nome, email, telefono): Valter Sergo Tel : 040 558 3702 Mail: sergo@units.it Settore scientifico disciplinare del progetto: CHI/07 Fondamenti chimici delle tecnologie.

Si dichiara che l’impresa è in possesso dei requisiti di natura soggettiva previsti per la

partecipazione agli appalti pubblici di lavori, servizi e forniture ovvero di non trovarsi in una delle clausole di esclusione previste dall’art. dall’art.80 del D.Lgs 50/2016 e successive modifiche.

Si dichiara che nell’ambito della “call for project” del progetto HEaD, Operazione 2, il progetto

dettagliato nella sezione “Descrizione della proposta progettuale” di cui sopra viene presentato esclusivamente all’Università degli Studi di Trieste.

Si dichiara di aver preso visione del bando emanato con Decreto 793/2016 e di impegnarsi qualora

la proposta progettuale risulti selezionata a: - mettere a disposizione dell’assegnista di ricerca gli spazi, l’attrezzatura e il materiale di

cui alla presente domanda; - stipulare con l’Ateneo referente il documento d’intesa affinché lo stesso proceda alla

selezione dell’assegnista di ricerca. Si allega alla presente manifestazione d’interesse alla realizzazione del progetto del prof./dott. Valter Sergo Data 31/01/2017 Firma legale rappresentante

_____________________ Thundernil srl Sede legale: Via Ugo Foscolo nr 8 35131 Padova (PD) Sede operativa: Area Science Park Ed Q Basovizza Ss 14 km 163.5 34149 Trieste