PARTE VIG. V. Pallottino – Luglio 2011 Appunti di Elettronica –
Bozza incompleta della Parte VI pag.
Università di Roma Sapienza - Dipartimento di Fisica 1
PARTE VI (bozza incompleta)
DISPOSITIVI E CIRCUITI A SEMICONDUTTORI
cronologia essenziale dei dispositivi 1900 diodi a baffo di gatto
(cristalli di galena, solfuro di piombo)
1920 raddrizzatori a ossido di rame, al selenio, ecc.
1930 proposta di un transistore MOS (Lilienfeld)
1939 quaderno di laboratorio di Shockley 1
1947 transistore a contatto puntiforme (laboratori Bell
Telephone)
1951 transistore a giunzione, a cui seguono: diodo a giunzione,
cella solare, zener, ecc.
circuito integrato (J.S. Kilby, Texas Instruments, Nobel per la
Fisica 2 )
1960 processo planare (Fairchild), con cui si realizzano poi
circuiti integrati: “micrologici”,
amplificatori, ecc.
1971 primo microprocessore (Federico Faggin, Intel)
1997 microprocessore Pentium II Intel (7,510 6 transistori)
1998 memoria DRAM da 264 Mbit (~10 8 transistori)
2009 processore grafico GF100 (Fermi) NVIDIA (~310 9
transistori)
fascicoli speciali dedicati all’elettronica dei semiconduttori
nascita dei dispositivi bipolari: IEEE Spectrum, gennaio 1973
nascita dei dispositivi MOS: Proc. IEEE, ottobre 1988
nanoelettronica d’oggi: Proc. IEEE, aprile 1997
nanoelettronica e “nanoscale processing”: Proc. IEEE, novembre
2003
futuro dell’elettronica integrata: Proc. IEEE, febbraio 2008
Gli straordinari progressi dell’elettronica integrata negli ultimi
decenni derivano da:
a) tecnologie realizzative, incluse le tecnologie di crescita
- cresce l’area delle fette (wafer) di silicio diametro di 12
pollici
- cresce l’area dei chip e diminuisce la densità dei difetti
- diminuiscono le dimensioni minime dei dispositivi frazioni dim
(22 nm)
b) dispositivi e tecniche circuitali
- controllo degli effetti fisici che entrano in gioco via via che
si riducono le dimensioni
- diminuisce la potenza dissipata nei singoli dispositivi
1 Nel quaderno di laboratorio di William Shockley, 29 dicembre
1939, troviamo scritto: “Oggi mi sono reso conto che
è possibile, in linea di principio, realizzare un amplificatore a
semiconduttori anziché tubi a vuoto”. 2
http://nobelprize.org/nobel_prizes/physics/laureates/2000/kilby-lecture.pdf
3 Nel 1965 Gordon Moore stabilisce la legge empirica di Moore,
estrapolando i dati di pochi anni: la densità dei
circuiti integrati si raddoppia ogni circa 18 mesi (e una legge
esponenziale analoga seguono varie altre grandezze
fisiche, tecniche ed economiche relative a questa industria).
Interpretazione matematica: soluzione di equazione
differenziale del primo ordine a coefficienti costanti (per
decenni....). Interpretazione fisica in termini di reazione
positiva: i progressi tecnologici, migliorando le prestazioni e
riducendo i costi di fabbricazione dei dispositivi, ne
estendono continuamente le applicazioni; alla crescita del mercato
corrisponde un aumento del fatturato dell’industria,
che questa investe in nuove tecnologie, che a loro volta.... Fino a
quando la legge di Moore continuerà a valere? Non
certamente quando nella fabbricazione dei dispositivi si arriverà a
strati di spessore confrontabile con le dimensioni
atomiche. Ma ancora prima i fenomeni di natura quantistica
cominceranno a prevalere su quelli di natura classica. Già
oggi, d’altra parte, questi fenomeni trovano impiego in nuovi
dispositivi.
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RICHIAMI SUI SEMICONDUTTORI 4
1. Bande di energia e distribuzione in energia degli
elettroni
Facciamo riferimento in quanto segue al modello a bande, per cui
nei cristalli, a differenza di
quanto avviene negli atomi isolati, le energie degli elettroni più
esterni, a causa delle interazioni fra
gli atomi, si modificano assumendo livelli diversi molto poco
spaziati fra loro, costituendo così
delle bande di energie permesse che si assumono continue.
La banda di conduzione C, che rappresenta le
energie degli elettroni liberi, e quella di valenza V sono
separate da un intervallo (gap) di energia proibita EG negli
isolanti (oltre 5 eV) e nei semiconduttori ( 1÷2 eV). Nel
silicio, per esempio, si ha EG = 1,21 eV (a T = 0, dato che il gap
dipende dalla temperatura). Le
differenze si manifestano vistosamente nella conducibilità
elettrica. Si ha approssimativamente, in
unità di S/m: isolanti, 10 -16
÷ 10 -8
8 .
Chiamando n il numero totale di particelle, per esempio elettroni,
in un dato volume di un
solido (chiamato densità o concentrazione se riferito all’unità di
volume), la loro distribuzione
secondo l'energia E è descritta dalla funzione (E) tale che (E) dE
= n.
Tale funzione è data dal prodotto della densità degli stati
permessi N(E), che stabilisce
quanti stati ci sono in funzione dell'energia, e della probabilità
di occupazione degli stati f(E) in
condizioni di equilibrio termodinamico:
(1) ( ) ( ) ( )E f E N E
Per esempio in un metallo si ha N(E) = E, dove è una opportuna
costante.
La funzione f(E) dipende dal tipo di particelle. Per le molecole di
un gas, per esempio, vale
le legge di Boltzmann: f(E) = exp(-
E/kT). Agli elettroni liberi in un
cristallo si applica invece la legge di
Fermi-Dirac:
J. Millman, C. Halkias Microelettronica Bollati Boringhieri,
1978
M. Guzzi Principi di fisica dei semiconduttori Hoepli, 2004
0.1 0 0.1 0
isolante semiconduttore metallo
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(2) ( ) /
1 ( )
dove EF è il livello di Fermi, che rappresenta l'energia per cui la
probabilità di occupazione vale ½
(f(EF) = ½), k = 1,38 10 -23
J/K è la costante di Boltzmann e T la temperatura assoluta.
Si noti che per energie sufficientemente lontane dal livello di
Fermi la (2) è bene
approssimata dalle seguenti semplici leggi esponenziali:
(2a) ( )/ ( )/
( ) 3 ( ) 1 3 F FE E kT E E kT
Possiamo così stabilire, per esempio, la parte degli elettroni
liberi di un metallo che possiede energia sufficiente a
subire
il fenomeno della emissione
termoelettronica. Il grafico mostra
può sfugge dal catodo riscaldato di un tubo
elettronico a vuoto, se il lavoro di
estrazione dal metallo è EW.
2. Semiconduttori intrinseci
In un semiconduttore puro (intrinseco) il livello di Fermi, come
poi vedremo meglio, si trova a
metà della banda proibita: EF = (EV + EC)/2. Per T = 0 la banda di
conduzione è vuota e non vi sono
elettroni liberi. Per T > 0 qualche elettrone, dotato di energia
sufficiente, può passare dalla banda di
valenza in quella di conduzione, diventando così libero di muoversi
nel cristallo. Ma in tal caso,
corrispondentemente, si creano delle lacune (o buche), anch’esse
libere di muoversi (in realtà le
lacune non si muovono: si muovono gli elettroni che vanno a
occuparle, liberando altre lacune). Sia
gli elettroni che le lacune sono portatori di carica. La
liberazione di un elettrone produce quindi
due portatori nel cristallo: uno dotato di carica negativa
(l’elettrone) l’altro di carica positiva (la
lacuna). Il numero di questi portatori, come vedremo subito,
dipende fortemente dalla temperatura.
Nella banda di conduzione si ha, similmente ai metalli, ( )n CN E E
E per la densità
degli stati e quindi, in base alla (1) la densità n degli elettroni
liberi, utilizzando la (2a), è:
(3) ( )/
.
Nella banda di valenza, dove i portatori liberi sono le lacune, si
ha ( )p VN E E E e
siccome fp(E) = 1 - f(E), la densità p delle lacune è:
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(4) ( ) / ( )(1 ( ))
dove NV (densità effettiva degli stati in banda di valenza) dipende
dalla temperatura come NC. Si
trova che NV ≈ NC; le due grandezze, in effetti, differiscono in
ragione della differenza fra le masse
efficaci delle due specie di portatori, questione che rimandiamo a
trattazioni più specifiche.
La neutralità elettrica del cristallo impone evidentemente che sia
ni = pi , indicando con i
simboli ni e pi le densità dei portatori in un semiconduttore
intrinseco. E del resto il numero delle
lacune, per come esse sono generate, deve corrispondere esattamente
a quello degli elettroni liberi.
Dall’uguaglianza fra la numerosità delle due specie deriva la
condizione:
(5) ( ) / ( ) /C F F VE E kT E E kT
C VN e N e
e quindi, dato che NV ≈ NC, ne consegue che EC – EF ≈ EF - EV, cioè
il livello di Fermi si trova a
metà della banda proibita
Consideriamo ora il prodotto fra le densità delle due specie,
indicato generalmente con il
simbolo ni 2 . Nel caso di un semiconduttore intrinseco dalle (3) e
(4) si ricava
(7) ( )/ ( )/ /2 C F F V GE E kT E E kT E kT
Ma il risultato è del tutto generale, dato che il prodotto n p = ni
2 non dipende dalla posizione del
livello di Fermi ma solo dall’ampiezza EG della banda proibita. Per
evidenziarne la dipendenza dalla
temperatura si può scrivere:
in aT e
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dove a è una costante caratteristica del materiale.
Qui la temperatura interviene sia nel fattore T 3 sia,
assai più vivacemente, nell’esponenziale sia ancora
nell’energia di gap, che dipende anch’essa dalla
temperatura, seppur debolmente.
3. Semiconduttori drogati
E’ possibile modificare le proprietà elettriche di un cristallo
semiconduttore puro inserendovi
piccolissime quantità controllate di atomi di altre specie,
ottenendo così semiconduttori estrinseci o
drogati. Questi atomi vanno a sostituire altrettanti atomi di
semiconduttore nel cristallo senza
alterarne, idealmente, la struttura cristallina, ma modificandone
la struttura a bande. A un cristallo
di silicio o germanio (IV gruppo della tavola periodica,
tetravalenti) si possono aggiungere atomi
del V gruppo (pentavalenti), che si comportano allora come donatori
di elettroni; oppure atomi del
III gruppo (trivalenti), che si comportano come accettori di
elettroni; con densità rispettivamente
ND e NA, molti ordini di grandezza sotto a NC ed NV.
Drogando il silicio con elementi donatori (fosforo, arsenico,
antimonio, ...) si ottengono
semiconduttori di tipo N, cioè con un eccesso di elettroni liberi
rispetto alle lacune (n > p). In tal
caso gli elettroni costituiscono i portatori maggioritari, la
lacune i portatori minoritari. L’elettrone
in più di un atomo pentavalente inserito nel cristallo costituito
da atomi tetravalenti ha bassa energia
di legame (0,01 ÷ 0,05 eV) sicché si libera facilmente già a
temperatura ambiente. In tal caso non si
produce però una lacuna, ma una carica fissa (ione donatore carico
positivamente). Notiamo anzi
che il numero delle lacune diminuisce rispetto al caso del
semiconduttore intrinseco a causa del
maggior numero di elettroni liberi che possono andare a
occuparle.
La presenza di atomi donatori facilmente ionizzabili modifica
la struttura a bande introducendo un livello 5 ED nella banda
proibita
(linea spessa in figura), subito sotto al bordo inferiore EC della
banda
di conduzione, e provocando lo spostamento verso l’alto del livello
di
Fermi. Più precisamente, per T = 0 la situazione resta
immutata
rispetto al caso intrinseco (EF = EF0), mentre per T > 0, man
mano che
i donatori si ionizzano, il livello di Fermi sale e quindi EF >
EF0.
Quando tutti gli atomi donatori hanno liberato il loro
elettrone,
si ha n = ND + ntermici ND. Uguagliando allora n con ND nella
(3)
5 Per cui l’energia di legame dell’elettrone facilmente liberabile
è EC – ED.
)
Ge 0,74 eV 0,66 eV 2,5 10 19
Si 1,17 eV 1,11 eV 1,5 10 16
GaAs 1,52 eV 1,43 eV 1.8 10 12
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(9) ( ) /C FE E kT
C Dn N e N
si ottiene (EC - EF)/kT = ln(NC/ND), da cui si ricava la posizione
del livello di Fermi (linea
tratteggiata in figura) in presenza di drogaggio nel caso di
ionizzazione totale:
(10) ln C F C
D
Per esempio, drogando il silicio con una concentrazione di donatori
ND = 10 -6
NC, a 300 K
(kT = 0,026 eV) si ottiene: EF = EC – 0,026 ln(10 6 ) EC – 0,36 eV,
più alto che nel caso intrinseco
(EF = EC – EG/2 EC – 0,56 eV). Si noti poi che dall’entità del
drogaggio dipende il segno del
secondo termine nella (10): per drogaggi eccezionalmente forti il
livello di Fermi può spostarsi
sopra a EC, cioè entrare nella banda di conduzione, e in tal caso
il semiconduttore si chiama
degenere.
Drogando il silicio con elementi accettori (gallio, boro,
alluminio, indio, ...) si ottengono
semiconduttori di tipo P, cioè con un eccesso di lacune rispetto
agli elettroni liberi (p>n). In tal
caso le lacune costituiscono i portatori maggioritari, gli
elettroni i portatori minoritari. L’elettrone
che manca a un atomo trivalente inserito nel cristallo costituito
da atomi tetravalenti (e che occorre
per stabilire i necessari legami) viene facilmente catturato,
sottraendolo a un altro atomo del
cristallo. Si produce così una lacuna, accompagnata da una carica
fissa (ione accettore carico
negativamente). Ma allora gli elettroni liberi diminuiscono
rispetto al caso del semiconduttore
intrinseco a causa del maggior numero di lacune che possono
catturarli.
La presenza di atomi accettori facilmente ionizzabili
modifica la struttura a bande introducendo un livello EA
nella
banda proibita (linea spessa in figura), subito sopra al
limite
superiore EV della banda di valenza. Provocando così lo
spostamento del livello di Fermi verso il basso. Più
precisamente,
per T = 0 la situazione resta immutata rispetto al caso
intrinseco
(EF = EF0), mentre per T > 0, man mano che i donatori si
ionizzano, il livello di Fermi scende e si ha EF < EF0.
Quando tutti gli atomi accettori hanno catturato
l’elettrone, si ha p = NA + ptermici NA, sicché, utilizzando la
(4)
(11) ( ) /E E kTF V
V Ap N e N
si ottiene (EV – EF)/kT = ln(NV/NA), da cui si ricava la posizione
del livello di Fermi (linea
tratteggiata in figura) in presenza di drogaggio nel caso di
ionizzazione totale:
EA
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(12) ln V
E’ importante notare che nei semiconduttori drogati, non importa se
di tipo N o P, il livello
di Fermi si sposta, ma il prodotto n p resta costante,
indipendentemente da EF, come indica la (7),
che esprime la condizione di equilibrio chiamata legge di azione di
massa, che qui riscriviamo per
comodità
Da essa si ricava che in un semiconduttore di tipo N la densità dei
minoritari è p ND / ni 2 ; in uno
di tipo P è n NA / ni 2 .
La figura rappresenta qualitativamente
densità di elettroni liberi in un
semiconduttore intrinseco (curva a
drogaggio di tipo N (curva continua). In
quest'ultimo, al crescere della
aumenta rapidamente grazie alla ionizzazione degli atomi donatori,
fino a raggiungere una
condizione di saturazione (ionizzazione totale). A temperature più
elevate la curva ricomincia poi a
salire grazie all'effetto termico, fino a che il semiconduttore
torna a comportarsi come intrinseco.
Quando un cristallo semiconduttore viene drogato sia con donatori
che con accettori si verificano effetti di
compensazione. Quando i due drogaggi sono esattamente della stessa
entità, si ha EF = EF0; allora il semiconduttore, che
prende il nome di compensato, si comporta come se fosse intrinseco.
Ma solo idealmente, perché gli inevitabili difetti
introdotti dal drogaggio nella struttura cristallina provocano una
diminuzione delle vite medie dei portatori (vedi sotto).
4. Generazione e ricombinazione
Le densità di portatori ricavate sopra (vedi tabella) esprimono una
condizione di equilibrio
termodinamico. Più precisamente, si tratta di valori medi attorno
ai quali i valori effettivi fluttuano
continuamente. I portatori, infatti, non sono sempre gli stessi, ma
continuamente si ricombinano
tipo di semiconduttore elettroni liberi lacune livello di
Fermi
Intrinseco n ni p ni EFo = ½ (EC + EV)
Drogato di tipo N n ND p ni 2 /ND EF > EF0
Drogato di tipo P n ni 2 / NA p NA EF < EF0
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mentre continuamente se ne generano di nuovi per effetto termico.
Un elettrone libero sussiste, in
media, per un tempo caratteristico (vita media) n, una lacuna per
un tempo p.
Considerando le lacune, chiamiamo p0 la densità di equilibrio, p la
densità effettiva a un
dato istante. Le lacune si ricombinano con tasso di ricombinazione
rp = p/p (proporzionale a
quante ce ne sono effettivamente), mentre se ne generano di nuove
con tasso di generazione
gp = p0/p (proporzionale a quante ce ne dovrebbero essere,
all’equilibrio). Si può quindi scrivere
per le lacune
(15) o n n
Un modo semplice e non invasivo per perturbare l’equilibrio di un
semiconduttore è quello
di illuminarlo. In tal caso per effetto fotoelettrico interno si
crea un eccesso di densità,
evidentemente uguale per le due specie di portatori. Ma se il
cristallo è drogato l’aumento relativo
dei minoritari è assai più vistoso di quello dei maggioritari.
Consideriamo in particolare un
materiale di tipo N. A seguito dell’illuminazione, esso raggiunge
una nuova condizione di
equilibrio: la densità delle lacune in un suo punto generico assume
il valore pl, con eccesso
p’ = pl – p0 > 0 rispetto all’equilibrio termodinamico.
Interrompendo l’illuminazione, l’eccesso p’
decade fino ad annullarsi come stabilito dalla (14), riscritta
nell’eccesso: dp’/dt = -p’/p. Si ha
pertanto:
t t
Si ha ricombinazione quando un elettrone libero della banda di
conduzione si ricombina con
una lacuna della banda di valenza. L’energia che si libera (≈ EG)
può dar luogo a emissione di fotoni
oppure può essere ceduta al reticolo ( §17). Ma prevale spesso un
altro meccanismo, legato alla
presenza di centri di ricombinazione: impurità chimiche e
imperfezioni fisiche del cristallo. Sicché
gli effetti di ricombinazione sono tanto più vistosi quanto meno
perfetto e puro è il cristallo. Le vite
medie n e p dipendono moltissimo da tutto ciò, assumendo valori che
possono estendersi su molti
ordini di grandezza (fra 1 ns e 1 ms). Notiamo in particolare che
esistono varie tecniche per
diminuire i valori di queste grandezze, per un dato materiale,
quando ciò risulta necessario (una di
queste è il drogaggio con atomi di oro); ma non per
aumentarli.
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5. Trasporto di cariche per deriva e diffusione
In un metallo c’è un “gas” di elettroni liberi in moto casuale,
dovuto all’agitazione termica, che
urtano continuamente contro il reticolo. In presenza di un campo
elettrico , questi elettroni sono
soggetti a un moto ordinato di deriva (drift) o migrazione che si
sovrappone a quello casuale, e che
generalmente è assai più lento.
Sebbene gli elettroni siano soggetti a una forza elettrica
costante, la velocità di questo moto
non cresce senza limite a causa degli urti con il reticolo. A ogni
urto, infatti, viene persa gran parte
dell’energia cinetica acquistata. Ammettendo che dopo ogni urto la
velocità dell’elettrone si annulli
e chiamando u il tempo medio fra gli urti, si conclude che la
velocità media di deriva è vD = a u ,
se a è l’accelerazione. Si ha pertanto:
(17) e D u
dove qe e me sono la carica e la massa dell’elettrone, e la
grandezza , che si misura in unità di
m 2 /(V s), prende il nome di mobilità.
In un semiconduttore vi sono due specie di portatori, e quindi per
esse avremo
rispettivamente le velocità: vn = -n , vp = p .Il valore della
mobilità dipende dalla temperatura ed
è determinato da vari meccanismi di scattering: scattering
reticolare (dovuto, come si è detto, alle
vibrazioni termiche), con le impurità (che dipende dal drogaggio),
... In generale gli elettroni sono
più “mobili” delle lacune; si ha infatti n/p > 1 (~2 nel Ge, ~3
nel Si, ~20 nel GaAs). Ma la
proporzionalità diretta fra velocità e intensità del campo non si
mantiene quando questa diventa
elevata, nel silicio per circa | | > 10 6 V/m. In queste
condizioni la mobilità diminuisce perché la
velocità dei portatori tende a saturare quando essi diventano
sufficientemente “caldi” rispetto al
reticolo.
Considerando una sbarretta di semiconduttore omogeneo di sezione A,
possiamo scrivere le
seguenti espressioni per le correnti delle due specie in presenza
di un campo elettrico
; pn
n e n e n p e p e p
II J q nv q n J q pv q p
A A
I J J J n p q
A
dove è la conducibilità elettrica, che si misura in unità di
S/m
(20) ( )n p e n pq n p
J A
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La figura a destra rappresenta
qualitativamente l’andamento della
per un semiconduttore intrinseco e per uno
drogato, evidenziando l’effetto dello
scattering sulla mobilità.
La diffusione è un meccanismo di
trasporto di natura statistica, che si manifesta quando non è
uniforme la distribuzione spaziale di un
insieme di particelle soggette a moto casuale (come nel caso
dell’agitazione termica). Il suo effetto
è di tendere ad uniformare questa distribuzione. Il fenomeno della
diffusione è molto generale: si
spostano per diffusione le molecole di gas che si trovano in un
recipiente, gli atomi di drogante che
penetrano a caldo attraverso la superficie di un semiconduttore, i
portatori di carica in un cristallo
semiconduttore, ecc. A noi questo fenomeno interessa come
meccanismo di trasporto di portatori di
carica, sottolineando che esso ha luogo anche in assenza di un
campo elettrico.
Consideriamo le lacune in cristallo semiconduttore. Il loro moto
per diffusione in una
dimensione è descritto dalla legge
(21) p e p
dp J q D
dx
dove Jp è la densità di corrente, proporzionale al gradiente della
densità, qe la carica elementare e Dp
la costante di diffusione per le lacune. Il segno meno indica che
le particelle si spostano in verso
opposto al gradiente della densità (muovendosi cioè da dove sono
più numerose verso dove sono
meno numerose). Un’espressione analoga vale per gli elettroni
liberi, con costante di diffusione Dn:
(22) n e n
dn J q D
dove il segno meno non figura perché …
La costante di diffusione, che si misura in unità di m 2 /s, è
legata alla temperatura e alla
mobilità dalla relazione di Einstein
(23) eq D kT
q
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dove la grandezza VT prende il nome di “tensione termica” o di
equivalente in tensione della
temperatura (VT 26 mV a 300 K).
Più in generale, in presenza di un campo elettrico , al moto dei
portatori contribuisce sia la
deriva che la diffusione. Utilizzando le formule (18), (21) e (22),
e considerando ancora il caso
unidimensionale, si ha:
(25) ;p e p e p n e n e n
dp dn J q p q D J q p q D
dx dx
E quindi la corrente è complessivamente:
(26) n p e n e n e p e p
I dn dp J J J q n q D q p q D
A dx dx
Per fissare le idee su questa molteplicità di termini consideriamo
come
esempio la sbarretta in figura, dove si ha dn/dx = dp/dx < 0, ed
è presente
un campo elettrico .
dei portatori è quello
descritto in tabella.
6. Alcuni effetti su cui si basano certi dispositivi utilizzati
come trasduttori
6.1 termistori
Nei metalli la resistività 1/cresce con la temperatura (scattering
reticolare), con legge
approssimativamente lineare. A 300 K si ha tipicamente circa
0,4%/K, cioè l’effetto è relativamente
debole, ma trova impiego, per esempio, nei termometri al platino o
al nichel. Nei semiconduttori il
fenomeno ha segno opposto e l’andamento con la temperatura è assai
più vivace. In un cristallo
intrinseco per la (20) si ha i = ni (n+p), dove ni cresce
esponenzialmente con la temperatura,
sicché la resistività diminuisce molto rapidamente con la
temperatura: a 300 K nel Ge si ha ~ 6%/K,
nel Si ~ 8%/K.
Si realizzano vari tipi di termistori usando miscele di ossidi di
determinati metalli, con
resistenza M e coefficiente di temperatura ~35%/K, che sono usati
come termometri
(sensibili, ma poco precisi), elementi di compensazione termica nei
circuiti, bolometri (rivelatori di
radiazione elettromagnetica) e in varie altre applicazioni.
6.2 Effetto Hall
La forza di Lorenz f qv B provoca una d.d.p. trasversale in un
cristallo semiconduttore in cui
portatori effetto moto dei
A J
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scorre corrente in presenza di un campo magnetico B. L’effetto Hall
è usato per eseguire misure di
concentrazione e di mobilità nei semiconduttori, e per realizzare
trasduttori di campo magnetico.
6.3 Fotoconducibilità e fotoresistori
Quando un semiconduttore è investito da radiazione
elettromagnetica, per effetto fotoelettrico
interno si possono creare coppie elettrone-lacuna che ne aumentano
la conducibilità. Per ogni tipo
di materiale l’energia minima dei fotoni è EG. Dato che deve essere
E = hc/EG, la lunghezza
d’onda dovrà verificare la condizione: G = 1,24 m /EG, con EG
espresso in eV. Questa
regione si estende nell’infrarosso per i materiali a più basso EG.
Si hanno in particolare i seguenti
valori di G a 300 K: 0,51 m per CdS; 0,87 m per GaAs; 1,1 m per Si;
3,3 m per PbS.
L’efficienza quantica rappresenta la frazione di fotoni incidenti
(con E ≥ EG) che produce
effettivamente coppie di elettroni e lacune; con una dipendenza
dalla lunghezza d’onda che
rappresenta la risposta spettrale del materiale.
Questo effetto è sfruttato nei fotoresistori, realizzati
utilizzando un semiconduttore
intrinseco o relativamente poco drogato, con resistenza 100 M, in
cui = (n n+p p).
Quesiti. Per aumentare la sensibilità di questi dispositivi
conviene raffreddarli o riscaldarli? Che succede quando la
luce
che li illumina viene a cessare?
6.4 Strain gage
Sebbene non abbiano nulla a che fare con i semiconduttori,
menzioniamo fra i trasduttori anche gli strain gage o
estensimetri, che producono un segnale elettrico proporzionale alla
deformazione (strain) è sottoposto il metallo che li
costituisce. Generalmente sfruttano la seconda legge di Ohm, come
il Lettore potrà verificare per esercizio,
considerando l’allungamento di una sbarretta, supponendone costante
il volume. Dato che le variazioni di resistenza
sono molto piccole, la lettura degli estensimetri viene fatta
usando un circuito a ponte, una soluzione che permette
anche di compensare gli effetti di temperatura.
7. Equazione di continuità. Iniezione di portatori
minoritari.
Ricaviamo l’equazione di continuità, che esprime la
conservazione della carica, nel caso unidimensionale
considerando una sbarretta di semiconduttore avente sezione A. La
variazione nell’unità di tempo
del numero di lacune contenute nel volumetto Adx si esprime come
segue:
a) in assenza di fenomeni di generazione e ricombinazione:
(27) p
x x+dx
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b) in presenza di generazione e ricombinazione, in base alla (14),
ma quando dJp = 0:
(28) 0
Pertanto nel caso generale si ha per le lacune, e analogamente per
gli elettroni:
(29) 0 01 1p n
p e n e
t q x t q x
Consideriamo ora una lunga sbarretta di semiconduttore omogeneo
di
tipo N, con densità di equilibrio termico n0 D e p0 ni 2 /ND.
Illuminiamo la faccia a x = 0 producendo localmente coppie di
portatori con eccessi p’ e n’ (con n’ = p’), tali però che p’ <
n0
(condizione di iniezione a basso livello). Si avrà allora p(x) <
n0 lungo tutta la sbarretta. Per x = 0 si
ha in particolare: p(0) = p0 + p’(0). Quanto avviene per le lacune
lungo la sbarretta è descritto dalla
(29), che riscriviamo nella forma seguente, evidenziando la
dipendenza dall’ascissa x:
(30) 0
,, , 1 p
p e
t q x
Ammettendo che la corrente di deriva delle lacune sia trascurabile
6 (per la bassa densità di questa
specie) rispetto a quella di diffusione, utilizziamo la (21) per
ottenere l’equazione
(31) 2
t x
Quesito. Questa equazione è la stessa che descrive una linea di
trasmissione. Di che tipo?
Il transitorio descritto nella figura a fianco segue una
legge esponenziale governata dalla costante di tempo p
Considerando costante l’illuminazione sulla faccia a
x = 0, la soluzione a regime si ottiene annullando le
derivate rispetto al tempo, in particolare il primo
membro della (31). Riscrivendo tale equazione in termini
dell’eccesso p’(x) = p(x) – p0 si ha
(32) 2
dx
6 Non così, come vedremo nel seguito del paragrafo, per la corrente
di deriva dei numerosi elettroni presenti.
luce cristallo N
p0
t
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Introducendovi la lunghezza di diffusione, che rappresenta la
distanza media che un portatore, nel
caso presente una lacuna, percorre prima di ricombinarsi
(33) p p pL D
si ha infine
dx L
La soluzione della (34) ha la forma generale
(35) 1 2' exp / exp /p pp x K x L K x L
dove evidentemente sarà K2 = 0 se la sbarretta è sufficientemente
lunga (>> Lp), mentre K1 si
determina conoscendo l’eccesso p’(0), a cui è appunto uguale.
Quindi l’andamento dell’eccesso di
lacune lungo la sbarretta è semplicemente:
(36) ' ' 0 exp / pp x p x L
dx L e quindi una corrente di diffusione:
(37) ' 0 exp / e p
p e p p
dx L
lacune p’(0) presente alla faccia illuminata.
Alla corrente di diffusione di lacune si accompagna una
corrispondente corrente di elettroni. Perché in ogni punto del
cristallo si abbia neutralità elettrica,
con n’ = p’ e quindi dn’/dx = dp’/dx, questa corrente, costituita
da elettroni in moto nello stesso
verso delle lacune e quindi di segno opposto alla corrente di
lacune,
(38) n n e n e n p
p
Ddn dp J x q D q D J x
dx dx D
sarà più intensa di quella di lacune, essendo Dn > Dp. Ma la
corrente totale attraverso qualsiasi
sezione della sbarretta (che costituisce un circuito aperto) deve
essere nulla, sicché dovrà scorrere
una corrente di deriva che porti a zero la corrente totale e quindi
nel cristallo si deve stabilire il
campo elettrico a ciò necessario. La corrente di deriva di
compensazione, costituita essenzialmente
da elettroni (che sono i portatori maggioritari), dovrà
essere
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(39) 1n n deriva p
p
D
e il campo elettrico necessario, ricordando la (18), sarà diretto
verso la faccia illuminata della
sbarretta e avrà intensità
D J x
q n N L
portatori nella sbarretta illuminata, e il verso e
l’intensità (indicativa) delle correnti corrispondenti.
8. Drogaggio non uniforme.
drogaggio non uniforme di entrambe le specie secondo la sua
lunghezza, nel quale vi sia una regione P dove NA(x) > ND(x)
e
una regione N dove ND(x) > NA(x). Nella regione P le
densità
di equilibrio saranno: p(x) NA(x) e n(x) ni 2 /ND(x); in
quella
N: n(x) ND(x) e p(x) ni 2 /ND(x). Dato che le densità dei
portatori non sono costanti, scorreranno delle correnti di
diffusione proporzionali ai gradienti.
Consideriamo in particolare la regione P. Qui, trascurando per
semplicità le correnti di
elettroni (portatori minoritari), a causa del gradiente di densità
scorrerà una corrente di diffusione di
lacune. Questa dovrà essere compensata da una corrente di deriva
diretta in senso opposto, grazie al
campo elettrico che si stabilirà nel cristallo in modo che la
corrente totale sia nulla attraverso ogni
sezione della sbarretta. Avremo dunque la condizione
(41)
0p pdiffusione pderiva e p e p
dp x J x J x J x q D q p x x
dx
da cui si ricava il campo elettrico all’uopo necessario:
(42)
p x
Per calcolare la differenza V21 fra i potenziali di due punti
generici del cristallo, utilizzando
la relazione di Einstein (23) e ricordando che (x) = -dV(x)/dx,
otteniamo
portatori effetto moto dei
elettroni diffusione elettroni deriva
N 2
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(43)
T
(44) 2 2
dx p
Si conclude in particolare che fra gli estremi del cristallo c’è
una differenza di potenziale
che dipende soltanto dalle densità dei portatori in tali sezioni (e
non dal suo andamento lungo il
cristallo). Allo stesso risultato conduce una analisi svolta
considerando gli elettroni anziché le
lacune. In tal caso si ottiene infatti V21 = VT ln(n2/n1), che ha
lo stesso valore della (44) dato che,
chiamando rispettivamente ND ed NA i drogaggi ai due estremi, si ha
p1/p2 = NDNA/ni 2 = n2/n1=
NDNA/ni 2 .
Si noti che questa differenza di potenziale NON si misura con un
voltmetro, per lo stesso
motivo per cui non si misura tensione ai capi di una coppia di
metalli diversi, fra i quali si trova una
differenza di potenziale V21 per effetto Volta. In corrispondenza
dei contatti fra gli estremi del
cristallo e i conduttori esterni collegati allo strumento si
stabiliscono infatti delle differenze di
potenziale, che differiscono fra loro esattamente di V21,
annullando quindi la tensione applicata al
voltmetro.
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LA GIUNZIONE PN
9. La giunzione PN.
Si ha una giunzione PN 7 quando in un cristallo semiconduttore con
drogaggio non uniforme vi è
una regione P con prevalenza di lacune e una regione N con
prevalenza di elettroni liberi,
costituisce Tale elemento ha grande importanza perché è alla base
di una estesa varietà di
dispositivi: diodi, transistori bipolari a giunzione, celle solari,
ecc.
L’analisi del funzionamento di una giunzione PN è facilitata quando
si considera una
giunzione a gradino (o giunzione brusca, abrupt junction), nella
quale si ha un passaggio brusco
fra le due regioni, ciascuna delle quali è drogata uniformemente.
Sia NA il drogaggio di accettori
nella zona P e ND quello di donatori nella zona N. Avremo pertanto
nelle due regioni le seguenti
densità di portatori:
(45) zona P pp0 = NA np0 ≈ ni 2 /NA
(45a) zona N nn0 = ND pn0 ≈ ni 2 /ND
In una struttura siffatta la barriera di potenziale è localizzata
ai capi della giunzione, intesa
come superficie di separazione fra le due regioni o giunzione
metallurgica (in realtà, come vedremo
subito, nella regione di transizione attorno alla giunzione). Il
valore V0 dell’altezza della barriera
(valore di equilibrio in assenza di tensioni esterne) si ottiene
dalla (44) ponendo p1 = pp0 e p2 = pn0:
(46) 0 0
T T T
n p i
p n n
con evidente dipendenza sia dal drogaggio che dalla
temperatura.
Il campo elettrico è nullo in tutto il cristallo (vedi figura a
pagina seguente) salvo che in una
zona ristretta attorno alla giunzione, chiamata zona di
transizione, di svuotamento (depletion layer)
o di carica spaziale, dove vi sono cariche fisse “scoperte” (ioni)
, di opposta polarità ai due lati
della giunzione, ma non cariche libere. Qui. infatti, i portatori
sono rapidamente spazzati dal campo
elettrico. In tale regione, indicando con la densità di carica
elettrica, vale l’equazione di Poisson:
7 A differenza di quanto si legge talvolta, NON si forma una
giunzione PN ponendo a contatto due cristalli aventi
drogaggio di opposta polarità, perché gli effetti di superficie
diverrebbero dominanti.
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(47) 2
P e N fuori dalla regione di transizione perché ivi
sono nulli i gradienti di concentrazione dei portatori e
quindi anche il campo elettrico. Nella regione di
transizione perché la barriera di potenziale V0 è tale
da contrastare la diffusione dei portatori maggioritari
(lacune dalla zona P verso la N, elettroni liberi nel
senso opposto), più precisamente creando una
situazione di equilibrio dinamico complessivo fra
correnti di diffusione e di deriva di ciascuna specie
(inclusi i contributi derivanti dai fenomeni di
generazione nella regione di transizione).
Le bande di energia nelle due regioni
restano quelle caratteristiche, rispettivamente, di
una regione P e di una regione N, ma con una
traslazione verticale dell’una rispetto all’altra. Il
livello di Fermi, infatti, deve essere lo stesso in
tutto il cristallo perché i portatori abbiano in
media la stessa energia (altrimenti si
sposterebbero). L’entità della traslazione perché
i livelli di Fermi coincidano è
(48) 0 0 2 ln A D
e
i
n
dove E0 è minore di EG, con l’eccezione dei semiconduttori
così
fortemente drogati da risultare degeneri.
La situazione di equilibrio anzidetta, che si traduce in
assenza di corrente (I = 0) e di tensione nulla agli estremi
della
giunzione (V = 0), si verifica sia quando la giunzione si trova a
circuito aperto sia quando essa
viene cortocircuitata con un conduttore metallico.
P
N
zona P
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10. La giunzione PN con polarizzazione esterna.
Applicando una tensione fra i terminali del cristallo 8 , la
differenza di potenziale si ripercuote ai capi
della regione di transizione, modificando l’altezza della barriera
di
potenziale e portandola al valore
(49) VJ = V0 – V
avendo assegnato convenzionalmente, come nella figura, segno
positivo alla tensione esterna V applicata fra la zona P e quella
N.
Quando V < 0 (polarizzazione inversa) la barriera viene
innalzata e le correnti di deriva
sovracompensano quelle di diffusione dando luogo a una debole
corrente, detta corrente inversa (o
corrente di saturazione). Quando V > 0 (polarizzazione diretta)
la barriera viene abbassata e le
correnti di diffusione diventano dominanti, con una rapida crescita
dell’intensità in funzione di V.
Consideriamo ancora una giunzione a gradino, cioè con drogaggio
uniforme per cui valgono le (45)
e facciamo l’ipotesi (detta di iniezione a basso livello) che,
anche in condizioni di polarizzazione
diretta, la quantità dei portatori iniettati non modifichi le
densità dei maggioritari, quali sono
determinate dal drogaggio; cioè si abbia nella zona N: nn = nn0 =
ND , nella zona P: pp = pp0 = NA.
Ammettendo trascurabili le cadute di tensione nelle regioni P e N,
nell’ipotesi che la loro
conducibilità sia sufficientemente elevata, si conclude che il
campo elettrico nel cristallo è nullo
ovunque salvo che nella regione di transizione, e quindi le
correnti nelle regioni “neutre” possono
scorrere soltanto per diffusione. In particolare, nella regione N
la corrente sarà dovuta
prevalentemente alle lacune iniettate dalla regione P:
(50) ' 0 e pn
pn e p n
dx L
dove l’eccesso pn’(0), in prossimità della regione di transizione,
dipende dall’iniezione di lacune
nella zona N, cioè dalla tensione applicata. Per stabilire questa
dipendenza utilizziamo la (46) per
ricavare la densità pn0 in assenza di polarizzazione
(51) 0 0 0expn p ep p q V kT
e poi la stessa (46) estesa al caso di presenza di polarizzazione,
sostituendovi cioè V0 con
VJ = V0 – V, per ricavare la densità pn in questa condizione
8 Purché i contatti fra i conduttori esterni e il cristallo siano
di tipo ohmico, altrimenti il contatto fra metallo e
semiconduttore viene a costituire a sua volta una giunzione, del
tipo appunto metallo-semiconduttore.
P
-
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(52) 0 0exp ( )n p ep p q V V kT
Dalle precedenti si ottiene:
E quindi, essendo '
0(0)n n np p p l’eccesso di densità all’estremo della regione N in
prossimità
della regione di transizione, dalla (50) si ricava la corrente di
lacune:
(54) 0 exp 1 e p
pn n e
L
Svolgendo considerazioni analoghe per la corrente di elettroni Jnp,
calcolata all’estremo della
regione P in prossimità della regione di transizione, si
ottiene
(55) 0 exp 1e n np p e
n
L
Sommando le due correnti e chiamando A la sezione del cristallo si
ha infine l’equazione
del diodo (equazione di Shockley):
(56) exp 1 p n
pn np e no po e
p n
D D I A J J Aq p n q V kT
L L
che si può porre nella forma seguente ricordando l’espressione
della tensione termica VT:
(57) exp 1o TI I V V
dove la grandezza I0, utilizzando le (45) nell’ultimo
passaggio
(58)
2
p n p D n A
D DD D I Aq p n Aq n
L L L N L N
rappresenta la corrente di saturazione (o corrente inversa) della
giunzione.
Notiamo qui che i calcoli precedenti, in particolare la (50),
presuppongono che le due
regioni abbiano estensioni infinite, più precisamente molto grandi
rispetto alle lunghezze di
diffusione dei minoritari. Quando ciò non si verifica, la legge del
diodo va modificata, in particolare
sostituendo le lunghezze di diffusione con le lunghezze delle
regioni quando queste sono
sufficientemente piccole.
Come mostrato nella figura a pagina seguente, la curva
caratteristica corrente-tensione è un
esponenziale passante per l’origine. La corrente tende al valore di
saturazione -Io per valori negativi
crescenti della tensione esterna V, mentre per valori positivi essa
cresce esponenzialmente
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(aumentando di un fattore 10 per ogni aumento
della tensione di ln(10) VT ≈ 60 mV).
11. I diodi reali
ideale, rappresenta bene le caratteristiche dei
diodi al germanio, ma non quelle dei dispositivi
realizzati con silicio o arseniuro di gallio 9 .
L’analisi svolta nel paragrafo precedente,
infatti, non ha considerato gli effetti di generazione (importanti
in polarizzazione inversa) e di
ricombinazione (importanti in polarizzazione diretta) nella regione
di transizione. I quali danno alla
corrente un contributo, proporzionale al volume della regione, che
dipende dalla tensione esterna
secondo la legge exp(V/2VT). Questa stessa dipendenza dalla
tensione si manifesta anche quando la
corrente diventa così intensa che la densità dei portatori
minoritari iniettati diventa confrontabile
con quella dei maggioritari (alto livello di iniezione). Si
scrivono allora le espressioni:
(59) 0 0exp 1 ln 1T TI I V V V V I I
che rappresentano bene i dati sperimentali per opportuni valori del
parametro (compreso
nell’intervallo 12), chiamato fattore di idealità.
In pratica, i valori della corrente di saturazione sono nella
regione dei µA per i diodi di
segnale al germanio, nella regione dei pA o dei nA per quelli al
silicio, presentando generalmente i
valori più bassi nei diodi fatti di materiali con EG più alto. Ma
naturalmente questi valori dipendono
dall’area della giunzione e quindi sono relativamente assai più
elevati nei diodi usati nelle
applicazioni di potenza.
Inoltre, quando la corrente che attraversa la giunzione è
particolarmente intensa si
manifestano le cadute di tensione dovute alla resistenza (detta di
volume o di bulk) offerta dalle
regioni P ed N. E quindi la tensione effettivamente applicata alla
giunzione in polarizzazione diretta
è inferiore a quella fra i suoi terminali esterni. Chiamando Rs
questa resistenza e I la corrente
diretta, la tensione V che figura nelle espressioni precedenti (58)
e (59) va sostituita con V – IR. Ne
consegue che la curva caratteristica corrente-tensione viene più o
meno fortemente linearizzata in
9 Curve caratteristiche di una estesa varietà di dispositivi a
giunzione, inclusi i LED, sono riportate in Troubleshooting
Analog Circuits, Robert A. Pease, Butterworth, 1991, pp.
196-198.
I
-Io
V
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corrispondenza dei valori più alti di I. L’equazione del diodo in
polarizzazione diretta si modifica
come segue:
Posto che un diodo non è un conduttore ohmico, non se ne considera
generalmente la resistenza
statica (V/I) in quanto poco significativa e poco utile, ma la
resistenza differenziale (o dinamica)
rd, che si calcola immediatamente a partire dall’equazione del
diodo:
(61) 0
T d
VdV r
sommando a tale espressione, quando necessario, la resistenza di
bulk di cui si è detto prima.
Il comportamento di un diodo è
riassunto nella tabella a fianco.
A 300 K, in particolare, la resistenza
differenziale di un diodo al silicio in polarizzazione diretta è
data dall’espressione:
(61a) 52T
cioè 52/I ohm esprimendo I in mA
La curva caratteristica di un diodo viene talvolta rappresentata in
forma approssimata,
linearizzandola in vari modi come indicato nei grafici qui
sotto.
rettificatore ideale I = V/R per V > 0 I = V/R2 per V < 0 I =
(V-Vγ)/R per V > Vγ
I = V/R1 per V < 0
Nell’ultimo grafico a destra si ammette che il diodo conduca
soltanto per tensioni dirette maggiori di una soglia Vγ, a
cui, per i diodi al silicio, si attribuisce talvolta il valore di
0,5 volt. E’ chiaro che parlare di soglia nel caso di una
legge
esponenziale è insensato. Cosa rappresenta dunque questa grandezza?
Il valore della tensione al di sopra della quale la
corrente assume valori apprezzabili con un comune tester. Prendiamo
ad esempio un diodo con I0 = 1 nA. Perché vi
scorra una corrente dell’ordine di 10 µA occorre una tensione di
ηVT ln(I/I0) = 0,052 ln(10 -5
/10 -9
) ≈ 0,48 V.
diodo non polarizzato V = 0 I = 0 rd = ηVT/I0
polarizzazione diretta V > 0 I ≈ I0 exp(V/ηVT) rd = ηVT/I
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In un diodo reale polarizzato inversamente la corrente non è
costante
ma aumenta al crescere della tensione per vari motivi, fra
cui
l’inevitabile presenza di perdite più o meno ohmiche ai capi
della
giunzione. Intervengono poi fenomeni che provocano un brusco
aumento della corrente inversa in corrispondenza della
cosiddetta
tensione di rottura (breakdown voltage). Li discuteremo nel §14
in
quanto sono alla base del funzionamento dei cosiddetti diodi zener
e di
altri tipi di dispositivi.
corrente-tensione di un diodo, osserviamo subito, ricordando
in
particolare la (8), come varie grandezze che intervengono
nell’equazione del diodo presentino
dipendenze, più o meno vivaci, dalla temperatura.
Rimandando a trattazioni più specifiche per il calcolo di questi
effetti, ci limitiamo alle
seguenti conclusioni pratiche.
a) La tensione di un diodo a giunzione, polarizzato direttamente a
corrente
costante, 0lnTV V I I , varia con la temperatura (attorno alla
temperatura ambiente, con
legge approssimativamente lineare:
(62) dV/dT ≈ -2,2 mV/K
b) La corrente inversa cresce con la temperatura con legge
approssimativamente esponenziale,
raddoppiandosi ogni circa 10 gradi di aumento. Se alla temperatura
T0 la corrente inversa è
I0(T), alla temperatura T si avrà approssimativamente
(63) I0(T) = I0(T)2 (T-T
0 )/10
Ne consegue che un aumento della temperatura di qualche diecina di
gradi può accrescerne il valore
anche di un paio di ordini di grandezza.
12. Capacità di transizione e diodi varicap. Capacità di
diffusione
Il comportamento dinamico dei diodi a giunzione è determinato sia
dalle cariche fisse scoperte,
nella regione di transizione, sia dalle cariche mobili costituite
dai portatori minoritari che si trovano
nelle due zone della giunzione, in prossimità della regione di
transizione.
In particolare, al doppio strato di cariche fisse costituito dagli
ioni di atomi donatori e
accettori che si trovano nella regione di transizione, è associata
la cosiddetta capacità di
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transizione (depletion capacitance), che è definita in modo
incrementale: CT = |dQT/dV|, dove |QT|
è la carica immagazzinata in ciascuno dei due strati.
Il calcolo di questa capacità si semplifica considerando una
giunzione a gradino con densità
di drogaggio fortemente asimmetrica, per esempio con NA >>
ND. In tal caso, chiamando wp e wn le
estensioni della zona di transizione rispettivamente nella zona P e
in quella N, la neutralità elettrica
impone: wpNA = wnND, da cui wp << wn . E quindi
possiamo
approssimare come segue lo spessore totale della zona di
transizione:
wT ≈ wn.
Scriviamo ora l’equazione di Poisson (47) nella parte N della
zona di transizione:
dx
Integrando secondo l’ascissa in figura, si ha e DdV q N x
cost
dx ,
dove la costante si determina imponendo che il campo si annulli.
cioè
dV/dx = 0, per x = wT ≈ wn, ottenendo così: e D T
q NdV w x
dx .
Integrando ancora e ponendo V(0) = 0 (trascurando così la caduta
di
tensione nello spessore wp) si ha:
(65) 2
Ponendo pari a VJ l’altezza della barriera di potenziale si ha
V(wT) = VJ. E quindi dalla precedente
si ottiene la relazione
e D e D
V V V w
q N q N
Lo spessore della regione di transizione aumenta dunque al crescere
della polarizzazione inversa
(cioè per valori negativi crescenti della tensione esterna V)
mentre diminuisce al crescere della
densità di drogaggio ND. Notiamo peraltro che, a parità di
tensione, l’aumento del drogaggio
provoca un corrispondente aumento dell’intensità del campo
elettrico nella regione di transizione.
Per quanto sopra la carica elettrica immagazzinata, chiamando A
l’area della giunzione, è
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(68) QT = qe ND wT A
La capacità differenziale è dunque
(69) T T T e D
dQ dw C q N A
dV dV
Ricavando V dalla (66) e derivando rispetto a wT si ottiene
infine
(70) 02( )
dove l’espressione CT = Aε/wT, che coincide con quella di un
condensatore piano, è valida per
qualsiasi distribuzione del drogaggio.
In polarizzazione diretta, cioè con il diodo in conduzione, la
tensione esterna abbassa il
valore di VJ rispetto a V0, aumentando la capacità rispetto al caso
di assenza di polarizzazione. E
allora, in parallelo alla capacità, si trova la resistenza
differenziale della giunzione. In linea di
principio, VJ 0 per V V0 , e quindi CT ∞. Ma in questo caso
estremo non realistico anche la corrente tende all’infinito,
mentre
lo spessore della regione di transizione tende a zero.
Maggiore interesse presenta invece la condizione di
polarizzazione inversa, quando cioè la tensione esterna,
negativa,
si somma a V0 e quindi, quando è sufficientemente elevata, la
capacità di transizione di una giunzione a gradino risulta
inversamente proporzionale alla radice quadrata di |V|. Nel
caso
di una distribuzione lineare del drogaggio, la capacità dipende
dalla radice cubica della tensione.
I valori della capacità di transizione dei diodi usuali sono
dell’ordine dei pF o delle decine di
pF, naturalmente più alti nei diodi per correnti più intense, di
maggior area. La dipendenza della
capacità dalla tensione applicata trova vari impieghi pratici, per
i quali sono disponibili anche diodi
realizzati appositamente, chiamati varicap (diodi a capacità
variabile) e varactor (diodi a reattanza
variabile). I primi sono impiegati, per esempio, nei circuiti
risonanti dei ricevitori radio per
realizzare la sintonizzazione su comando elettrico. I secondi sono
impiegati come generatori di
armoniche a microonde grazie alla forte non linearità della loro
caratteristica capacità-tensione.
Menzioniamo infine brevemente l’impiego di questi dispositivi negli
amplificatori
parametrici, dove il segnale d’ingresso viene contemporaneamente
amplificato e convertito in
frequenza. Lo schema di principio è rappresentato nella figura a
pagina seguente, dove gli elementi
F sono filtri passabanda centrati alle frequenze indicate nello
schema. Qui si sfrutta la nonlinearità
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di un diodo a capacità variabile per
amplificare la potenza del segnale
d’ingresso, con frequenza angolare s,
grazie alla sua interazione con il segnale
di alimentazione (o di pompa) con
ampiezza fissa e frequenza angolare p.
Una delle frequenze di combinazione che vengono così generate (
Parte I, pag. xxx), con valore
opportuno di m ed n, viene selezionata e applicata al carico.
Ragionando in termini di quanti di energia, il loro numero resta
invariato dall’ingresso
all’uscita, ma aumenta la loro energia grazie alla conversione a
una frequenza più alta
(senza quindi violare il principio di indeterminazione). Questo
schema è vantaggioso
dal punto di vista del rumore dato che, idealmente, il diodo in
polarizzazione inversa
non presenta dissipazioni.
Tale capacità si chiama capacità di diffusione. La carica
minoritaria
(lacune) immagazzinata in eccesso rispetto all’equilibrio nella
zona N,
utilizzando la (36) e la (53), può essere calcolata così
(71) 0 0 0
n n
e n e p e n n e n e p n
x x p
kT
x x q V Q Aq p x p dx Aq p dx Aq L p
L kT
D
e una espressione analoga si ottiene per l’eccesso di carica
minoritaria nella regione P
(73 ) 2
n
D
Le due espressioni precedenti s’interpretano come segue. Perché
scorra corrente attraverso un diodo
è necessaria la presenza di eccessi di carica minoritaria
immagazzinati nelle due regioni (concetto di
controllo di carica o charge control). La corrente, d’altra parte,
provvede a rifornire le cariche che
continuamente si ricombinano.
G. V. Pallottino – Luglio 2011 Appunti di Elettronica – Bozza
incompleta della Parte VI pag.
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La capacità di diffusione, anch’essa definita in modo incrementale,
è data dalla somma dei
contributi associati alle cariche minoritarie immagazzinate nelle
due regioni:
(74)
Dp pn p pn Dn np n np
p n
dQ L dQ L C A J I C A J I
dV D dV D
L’espressione di questa capacità si semplifica considerando il caso
di una giunzione con drogaggio
fortemente asimmetrico; per esempio con NA >> ND, per cui CDp
>> CDn. Si ha allora dalla
precedente, approssimando I con Ipn e utilizzando la (61)
(75) p p
L’effetto di immagazzinamento delle cariche minoritarie si
manifesta
assai vistosamente nel comportamento transitorio dei diodi. Nel
circuito
in figura il diodo è comandato da un segnale d’ingresso che prima
lo
accende e poi lo spegne. Il transitorio di accensione è
relativamente
breve richiedendo semplicemente l’iniezione di lacune nella zona
N
(che supponiamo molto meno drogata della P). Alquanto più lungo
è
invece il transitorio di spegnimento, che richiede lo
smaltimento
dell’eccesso di lacune rispetto al valore di equilibrio. Avviene
così che,
dopo l’inversione di segno della tensione d’ingresso, nel diodo
scorra la
corrente necessaria ad eliminare queste cariche e solo
successivamente
la corrente si porti al valore di saturazione. Il tempo totale a
ciò
necessario, che prende il nome di transient recovery time,
dipende
evidentemente dai valori della tensione e della resistenza, e si
allunga
particolarmente quando la tensione inversa VR è nulla.
E’ importante osservare che questo fenomeno non si manifesta
nei diodi metallo-semiconduttore (diodi di Schottky) perché nel
metallo
di questo tipo di giunzione non vi sono cariche minoritarie. I
diodi di
Schottky, che presentano caduta diretta alquanto più bassa di
quelli al
silicio, sono usati, per esempio, in alcune versioni della famiglia
logica
TTL.
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13. Alcuni circuiti impieganti diodi
La proprietà essenziale dei diodi consiste nel condurre corrente in
un senso ma non nell’altro,
idealmente come rappresentato nel primo dei grafici a pag. 22. Tale
proprietà trova impiego in una
estesa varietà di circuiti nonlineari, alcuni dei quali sono
elencati in quanto segue, per semplicità
ammettendo nulla la caduta dei diodi in conduzione a meno di
indicazione contraria.
Limitatore. Il segnale d’ingresso
viene trasmesso in uscita solo
quando è inferiore al livello di
riferimento VR.
uscita solo quando è maggiore del
livello di riferimento VR.
Selettore di massimo. Restituisce in uscita il massimo dei due
ingressi:
vo = max(vi1, vi2). Realizza la funzione logica OR dei due
ingressi.
Selettore di massimo. Restituisce in uscita il minimo dei due
ingressi:
vo = min(vi1, vi2). Realizza la funzione logica AND dei due
ingressi. E’
utilizzato nel circuito d’ingresso delle porte NAND della famiglia
TTL.
Amplificatore logaritmico. Fornisce in uscita il logaritmo
del
segnale d’ingresso sfruttando la caratteristica esponenziale del
diodo.
Più precisamente, la corrente d’ingresso i = vi/Rs scorre nel diodo
ai
capi del quale si stabilisce la tensione 0lnTv V i I . In uscita si
ha
pertanto:
Rs
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incompleta della Parte VI pag.
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Rettificatore di precisione. In questo circuito rettificatore
l’effetto
della caduta VD del diodo in conduzione viene reso trascurabile
dalla
reazione negativa. Per segnali d’ingresso positivi, chiamando A
il
guadagno dell’amplificatore, l’uscita è vo = VD + A(vi –vo). E
quindi per A >> 1 si ha:
(77) 1 1
.
Rivelatori di picco. Il semplice circuito nella figura in alto
rivela e
mantiene in uscita il valor massimo positivo del segnale
d’ingresso.
L’errore introdotto dalla caduta del diodo in conduzione viene
reso
trascurabile nel circuito in basso, con la stessa tecnica usata nel
rettificatore
di precisione. L’errore introdotto dalla scarica del condensatore
sul carico
può essere fortemente ridotto utilizzando in uscita un follower a
FET, con
bassa corrente d’ingresso.
Circuiti raddrizzatori. L’impiego più diffuso dei diodi riguarda i
circuiti raddrizzatori, usati per
trasformare una corrente alternata in una unidirezionale. Il
circuito
nella figura in alto si chiama raddrizzatore a semionda perché
nel
carico scorre soltanto una semionda della corrente
d’ingresso.
Trascurando la caduta del diodo in conduzione e ammettendo
nulla
la sua corrente inversa, la tensione d’uscita segue la legge:
(78) sin( ) 0
per t
(79) 0
indicando con Vi eff il valore efficace della tensione
d’ingresso.
Il circuito nella figura in basso è chiamato raddrizzatore a onda
intera perché nel carico
scorre la corrente di entrambe le semionde della sinusoide
d’ingresso. Questo stesso risultato si
ottiene anche nel circuito chiamato a ponte, che utilizza quattro
diodi. Qui la tensione d’uscita segue
la legge:
V t per t
con valor medio dell’uscita doppio rispetto al raddrizzatore a
semionda
G. V. Pallottino – Luglio 2011 Appunti di Elettronica – Bozza
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(81) 2
In generale, il parametro che caratterizza la qualità della
conversione di una corrente alternata in
una unidirezionale, auspicabilmente continua, è l’ondulazione
residua o ripple, definito come
rapporto fra la deviazione standard e il valor medio della tensione
rettificata.
Nel caso del raddrizzatore a una semionda, ricordando la relazione
generale 2 2 2x x , si
ha:
(82)
mostrando così che nell’uscita vi è più alternata che continua,
essendo r > 1. Migliore, ma
certamente ancora insoddisfacente, è il comportamento dei
raddrizzatori a onda intera, dove
2 2 / 2o iv V , e si ha r = 0,482.
Per ridurre decisamente l’ondulazione in uscita, i circuiti
raddrizzatori sono generalmente
seguiti da circuiti di filtraggio. Di tipo induttivo disponendo un
induttore in serie al carico, di tipo
capacitivo disponendo un condensatore in parallelo al carico;
eventualmente utilizzando più celle di
filtraggio in cascata.
Lo schema più semplice e più spesso impiegato
a questo scopo è illustrato in figura. Quando il diodo è
acceso si ha i(t) = iC(t) + iL(t), cioè esso fornisce
corrente sia al condensatore che al carico; quando è
spento, è invece il condensatore a fornire corrente al
carico: iL(t) = -iC(t).
la caduta di tensione, si ha ( ) ( )
( ) i i
R dt , cioè
R
ma soltanto nel breve intervallo fra gli istanti t1 e t2
indicati in figura. Quando è spento, l’uscita decade
esponenzialmente con costante di tempo τ = RLC.
Calcoliamo ora il valor medio e il ripple della
tensione d’uscita assumendo le seguenti ipotesi semplificative: a)
intervallo di conduzione molto
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più breve del periodo della sinusoide d’ingresso, cioè T >>
t2 – t1; b) andamento lineare anziché
esponenziale della tensione d’uscita quando il diodo è spento; c)
condensatore ideale, privo di
perdite. In tal caso, assumendo l’origine dei tempi in
corrispondenza del picco della sinusoide
d’ingresso, si ha:
con valor medio
(85) 1 2
(86) 0,289
Nel caso di un rettificatore a onda intera, o a ponte, i risultati
precedenti restano validi purché si
sostituisca T/2 a T nelle loro espressioni.
Un altro parametro importante di un alimentatore è il rendimento,
cioè il rapporto fra la
potenza in continua fornita al carico e la potenza assorbita dalla
sorgente in alternata, che si cerca di
rendere più elevato possibile, cioè prossimo all’unità. Perché la
potenza dissipata in calore va ad
aumentare la temperatura dei circuiti, riducendone di conseguenza
l’affidabilità. E anche perché è
sempre opportuno ridurre al minimo i consumi di energia, che si
traducono in costi di esercizio.
Un fattore assai delicato che entra in gioco a questo proposito è
la caduta di tensione dei
diodi in conduzione, che negli anni ha assunto importanza sempre
maggiore con la tendenza verso
la diminuzione delle tensioni di alimentazione dei circuiti, con
particolare riferimento ai
microprocessori. I più recenti dei quali assorbono correnti molto
intense a tensioni molto basse,
dell’ordine del volt 10
.
In alternativa ai diodi al silicio, che per correnti moderate
presentano cadute dirette
dell’ordine di 0,7 volt ma di oltre 1 volt per correnti più
intense, si possono usare altri tipi di diodi,
con tensioni più basse: diodi al germanio o diodi
metallo-semiconduttore (un esempio di questi
ultimi è il diodo 1N5817, con caduta di 0,45 V a 1 A). Meglio
ancora, si possono impiegare circuiti
rettificatori attivi, o rettificatori sincroni, affidando la
rettificazione a MOSFET di potenza
funzionanti come interruttori, che presentano una caduta puramente
ohmica, con resistenze anche
inferiori al centesimo di ohm.
10
Si capisce che in questi impieghi la caduta di un tipico diodo al
silicio di potenza (≈ 1 V @ 10 A) risulta assai poco
accettabile ai fini del rendimento.
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14. Effetti di breakdown. Diodi zener e diodi tunnel
Abbiamo già detto che in polarizzazione inversa la corrente di un
diodo reale non assume un valore
costante di saturazione. Alla sua crescita all’aumentare della
tensione contribuiscono effetti di
perdite, effetti di autoriscaldamento (in certi casi con
possibilità di “fuga termica”) e soprattutto
effetti di rottura o breakdown (zener-tunnel e valanga) che
provocano un brusco aumento della
corrente inversa quando la tensione inversa raggiunge un
determinato valore. E qui notiamo che si
parla di “rottura”, ma in realtà nulla si rompe, almeno finché la
corrente non è sufficientemente
intensa da provocare una “cottura” irreversibile del dispositivo
per alti valori della potenza dissipata
nella giunzione.
Si ha effetto valanga (avalanche) quando i portatori che
attraversano la zona di transizione
vengono accelerati del campo elettrico acquistando energia
sufficiente a creare per urto coppie
elettrone-lacuna, che a loro volta … L’intensità massima del campo
nella zona di transizione, per
quanto esposto a pag. 24, è direttamente proporzionale al prodotto
NDwT , cioè in definitiva a
0( )DN V V (considerando ancora, per semplicità, il caso ND
<< NA). I valori di intensità che
danno luogo al fenomeno sono di qualche unità in 10 7 V/m per il
silicio e l’arseniuro di gallio. Il
coefficiente di moltiplicazione della corrente è dato dalla formula
empirica:
(87) 1
( ) 1 ( / )u
per valori di u tipicamente compresi fra 2 e 6, dove VB è la
tensione di breakdown, a cui la
corrente diverge. La temperatura non favorisce la moltiplicazione a
valanga in quanto il cammino
libero medio dei portatori si riduce al crescere delle vibrazioni
termiche del reticolo, e quindi la
tensione di breakdown aumenta, seppur debolmente, al crescere della
temperatura.
L’effetto zener-tunnel consiste invece nel passaggio diretto,
o tunneling, di elettroni di valenza dalla banda di valenza P a
quella
di conduzione N in una giunzione PN, attraverso la zona di
transizione. Si tratta di un effetto quantistico la cui
probabilità
aumenta rapidamente al diminuire dello spessore della zona di
transizione, in presenza di un campo elettrico elevato,
tipicamente
(ma non sempre, come vedremo poi) dovuto all’applicazione di
una
tensione esterna. Ciò si verifica, in altre parole, quando il
campo
diventa abbastanza intenso da provocare la rottura di un
legame
covalente.
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Questo effetto è favorito dalla temperatura perché al crescere di
questa grandezza aumenta
l’energia degli elettroni mentre diminuisce, sia pure debolmente,
il salto di energia EG. E quindi la
tensione di breakdown VB per effetto zener-tunnel diminuisce al
crescere della temperatura.
Osserviamo qui che i due effetti di rottura spesso coesistono e il
loro contributo relativo può essere
individuato osservando sperimentalmente il segno e l’entità del
coefficiente di temperatura della
tensione di rottura.
I dispositivi realizzati appositamente per ottenere una
caratteristica inversa corrente-tensione
con andamento molto ripido sono chiamati indifferentemente diodi
zener o diodi a valanga,
indicando con VZ la tensione a cui la conduzione inversa si
manifesta vistosamente. Si producono
dispositivi con tensioni di rottura fra circa 3 e 200 volt e
dissipazione di potenza fino a 10 W e oltre. Nei diodi al
silicio, tipicamente, per tensioni VZ fino a circa 7 volt
prevale l’effetto zener-tunnel, per tensioni superiori
l’effetto valanga, con un coefficiente di temperatura
tipicamente ≤ |0,1|%/°C.
pendenza della caratteristica inversa, è la resistenza
differenziale
indicativamente compresi fra 1 e 100 .
Questi dispositivi trovano vari impieghi, fra i quali menzioniamo i
seguenti: a) generatori di
tensione di riferimento (con precisione e stabilità termica
tuttavia relativamente modesta a fronte
delle prestazioni dei moduli integrati realizzati a questo scopo;
b) circuiti a soglia; c) elementi di
protezione, spesso realizzati nel chip per proteggere i circuiti
integrati ad alta impedenza d’ingresso
dalle scariche elettrostatiche (ElectroStatic Discharge, ESD), d)
generatori di rumore; e)
stabilizzatori di tensione, usati per esempio negli
alimentatori.
Simbolo grafico
del diodo zener
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Per stabilizzatore di tensione intendiamo un circuito che trasforma
una tensione continua soggetta a variazioni in una
costante nel tempo, poco dipendente dal carico e dalla temperatura,
che in qualche modo approssima un generatore
ideale di tensione. E che rappresentiamo nella forma seguente
(89) , ,i L
i L V I T
V V V V V dV dI dT
V I T
dove le tre derivate parziali, calcolate per un determinato punto
di lavoro del circuito, rappresentano rispettivamente la
funzione di trasferimento H fra le variazioni dell’ingresso Vi e
l’uscita, la resistenza differenziale d’uscita ro e il
coefficiente di temperatura. Per realizzare questa funzione di
stabilizzazione si impiegano comunemente appositi
moduli integrati, basati su un circuito a controreazione. Ma è
anche possibile utilizzare un diodo zener, come nello
schema in figura.
Analizzando in continua, si trova che la corrente che scorre
nel
resistore di caduta R è i Z Z L
V V I I I
R
R . Si ha
pertanto IZ = I – IL per la corrente che scorre nel diodo, dalla
quale
dipende il valore della sua resistenza differenziale rZ. La potenza
dissipata
nel diodo è P = VZIZ, il cui valor massimo determina a sua volta il
valore
massimo della corrente IZ.
Considerando poi le variazioni dei segnali, con riferimento
al
circuito equivalente in figura, si calcolano come segue la funzione
di
trasferimento / /
Quando il drogaggio di una giunzione PN è
particolarmente elevato, lo spessore della regione di
transizione si riduce a pochi nanometri e l’effetto zener-
tunnel si verifica anche per polarizzazione nulla o
debolmente positiva. Ciò avviene nel diodo tunnel,
inventato nel 1957 da Leo Esaki (Nobel per la Fisica nel
1973), la cui caratteristica corrente-tensione ha la forma
particolare mostrata nella figura, caratterizzata da un
picco e da una valle fra i quali si manifesta una regione
con resistenza differenziale negativa.
Al crescere della tensione diretta l’effetto tunnel
si riduce fino a svanire mentre entra in gioco la nomale conduzione
del diodo (curva sottile in basso
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nella figura). Un tipico diodo tunnel al germanio (1N3716) ha una
corrente di picco di 5 mA (a 60
mV), una corrente di valle di 0,5 mA (a 350 mV) e una resistenza
negativa di 25 .
I diodi tunnel possono essere utilizzati come oscillatori,
amplificatori ed elementi di
memoria (bistabili), ma la loro dinamica è modesta e inoltre, in
quanto dispositivi a due terminali,
presentano lo svantaggio di non offrire adeguata separazione fra
ingresso e uscita nei circuiti dove
sono impiegati.
15. Fotodiodi e rivelatori di radiazioni
I fotodiodi sono usati per rivelare deboli segnali luminosi, grazie
alle coppie elettrone-lacuna,
generate nel semiconduttore da parte di fotoni di appropriata
energia, che il campo elettrico separa e
indirizza verso gli elettrodi. Alla fotocorrente, che si somma alla
corrente di saturazione inversa I0,
contribuiscono sia le coppie generate nella zona di transizione che
i minoritari fotogenerati che vi
diffondono dalle regioni ad essa prossime, limitate dalla lunghezza
di diffusione.
L’equazione del diodo assume in questo caso la forma
(90) 0 exp 1T FI I V V I
dove la fotocorrente IF è direttamente proporzionale, con
buona
approssimazione, al flusso luminoso e la curva caratteristica non
passa
più per l’origine 11
. In polarizzazione diretta il contributo relativo della
fotocorrente è generalmente trascurabile. E infatti i fotodiodi
sono
impiegati usualmente in polarizzazione inversa, con la fotocorrente
che
si somma alla corrente di saturazione I0. Quest’ultima, denominata
qui
corrente oscura, limita evidentemente la sensibilità del
fotorivelatore.
Ma è possibile ridurla raffreddando il dispositivo.
I fotodiodi, in polarizzazione inversa, possono essere
rappresentati con il circuito equivalente per piccoli segnali
mostrato
nella figura. Dove la resistenza serie è dell’ordine delle diecine
di ohm,
la resistenza inversa dell’ordine delle diecine di megaohm e la
capacità nella regione dei pF. La
velocità di risposta è limitata dai seguenti fattori: la capacità
di transizione, il tempo di transito (per
deriva) nella regione di transizione, la diffusione dei portatori.
E quindi riducendo lo spessore della
regione di transizione la velocità di risposta aumenta, ma
diminuisce la sensibilità del dispositivo.
11
Ciò significa che il fotodiodo illuminato è un dispositivo attivo,
in grado di fornire energia a un carico. Questa
particolare funzione, in effetti, non è normalmente affidata ai
fotodiodi, ma alle celle solari.
G. V. Pallottino – Luglio 2011 Appunti di Elettronica – Bozza
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Per aumentare la sensibilità si utilizzano i fotodiodi PIN, nei
quali è presente una regione (I)
poco drogata, nella quale si estende la zona di transizione
anche
per polarizzazione inversa moderata, accrescendo così
notevolmente la regione fotosensibile. Una diversa soluzione
consiste nel portare la giunzione in condizioni di
moltiplicazione
per effetto valanga, in modo da ottenere una forte
amplificazione
della fotocorrente (tipicamente dell’ordine di 10 2 ). I
dispositivi
realizzati a questo scopo sono i fotodiodi a valanga
(avalanche
photodiodes, APD).
In modo simile ai fotodiodi funzionano i rivelatori di radiazioni
ionizzanti a giunzione, il
primo dei quali fu realizzato nel 1949 da K. G. McKay nei
laboratori della Bell Telephone e
utilizzato per rivelare particelle α. Questi dispositivi funzionano
grazie alla creazione di coppie per
ionizzazione, con il vantaggio di richiedere 3,6 eV nel silicio (e
2,9 eV nel germanio) contro i circa
30 eV necessari per il gas di una camera a ionizzazione. Così dal
numero di coppie prodotte in un
dato evento si può stabilire l’energia della particella o della
radiazione ionizzante, più precisamente
l’energia rilasciata da essa attraversando la regione sensibile del
rivelatore.
La struttura maggiormente impiegata è
costituita da diodi PIN polarizzati inversamente,
nei quali la zona N - è totalmente svuotata allo
scopo di ottenere un grande volume attivo e una
bassa capacità di transizione. Realizzando più
diodi sullo stesso chip, disposti con opportuna
periodicità spaziale come mostrato nella figura, si
ottengono rivelatori sensibili alla posizione 12
.
12
Dalla posizione della traccia dipendono infatti le quantità di
carica raccolte nei canali di misura adiacenti.
G. V. Pallottino – Luglio 2011 Appunti di Elettronica – Bozza
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16. Celle fotovoltaiche
La cella fotovoltaica 13
(o cella solare) a giunzione non è altro che un fotodiodo
funzionante in
regime di conduzione diretta, ottimizzato per realizzare la
conversione di energia luminosa in
energia elettrica. I fenomeni di fotogenerazione e di raccolta
delle cariche fotogenerate sono dunque
gli stessi che nei fotodiodi.
13
La prima osservazione dell’effetto fotovoltaico, dovuta a Edmond
Bequerel (padre di Antoine, scopritore della
radioattività), risale al 1839. La prima cella al silicio (con
rendimento del 6%) fu realizzata nel 1954 da D. Chapin, C.
Fuller e G. Pearson presso i laboratori Bell Telephone.
Premessa sulla radiazione solare
Appena fuori dell’atmosfera terrestre la radiazione solare è ben
approssimata da uno spettro di
corpo nero alla temperatura di 5760 K, con flusso di potenza di
1,366 kW/m 2 . Tale valore prende il
nome di costante solare sebbene non sia affatto costante. Nel corso
dell’anno varia infatti fra 1,321
kW/m² all’inizio di luglio e 1,412 kW/m² all’inizio di gennaio
(7%); e varia anche di 1,3 W/m²
picco-picco con la periodicità undecennale del ciclo solare (0,1%).
Alle nostre latitudini si assume
che la radiazione solare sulla superficie terrestre, quando ha
attraversato l’atmosfera subendo
attenuazione per effetti di assorbimento, abbia un flusso di
potenza di 1 kW/m 2 con cielo limpido e
il Sole al suo massimo. Per l’alternanza giorno/notte e la
variabilità meteo il valor medio del flusso
di potenza è alquanto più basso, dell’ordine di 1/6. Per esempio a
Milano, Roma e Palermo le medie
annuali sono rispettivamente: 159, 173 e 186 W/m 2 . A questi
valori, naturalmente, contribuisce sia
l’illuminazione diretta che quella diffusa.
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La struttura di una tipica
cella solare al silicio
corrente. Sulla parte
uno strato antiriflesso ricopre
lastrina di silicio debolmente
drogato P, con spessore totale
di circa 0,3 mm, nel quale viene creata la giunzione diffondendovi
anteriormente uno strato N. Che
è molto sottile (0,2-0,3 μm) in modo che i fotoni possano
raggiungere la zona di transizione e le sue
adiacenze, esercitandovi il loro effetto.
Ricaviamo la caratteristica corrente-tensione dalla (90),
tenendo presente che la corrente che ci interessa è quella
che
scorre nel